Ottica Livellata del Wafer - Introduzione e Soluzioni Disponibili per l'Ottica del Livello del Wafer dal Gruppo di EV

Argomenti Coperti

Generalità
Macchine Fotografiche Livellate del Wafer (WLCs)
Montaggio Matrice del Bollo
Modanatura UV di Microlens
Legame UV Stato Allineato

Generalità

In apparecchi elettronici moderni quali le macchine fotografiche digitali, i telefoni cellulari, le consoli portatili di gioco, computer portatili o netbooks, i sistemi micro-ottici sono interfacce decisive fra il mondo reale e la microelettronica del sensore di immagine dentro un modulo della macchina fotografica. Attualmente, il concetto generale di un assembly del modulo della macchina fotografica subisce una transizione da assembly discreto di ad integrazione livella del wafer facendo uso delle tecnologie dei semiconduttori affermate. di macchine fotografiche Livelle del wafer già hanno cominciato sostituire i moduli convenzionali dovuto i più piccoli fattori forma ed i rapporti più a basso costo della prestazione.

Macchine Fotografiche Livellate del Wafer (WLCs)

Le macchine fotografiche livellate del Wafer (WLCs) sono unità in cui tutte le diverse parti da costruzione al livello del wafer e poi sono saldate per fare parte un singolo che consiste di un sensore di immagine di CMOS (CIS) e di una pila delle micro-ottica che migliorano il risparmio di temi leggero di bloccaggio della macchina fotografica.

La litografia UV dell'impronta, originalmente sviluppata per la replica costo-efficiente delle strutture nell'intervallo di nanometro, ora è considerata uno strumento potente per il montaggio dell' ottica livella del wafer nei trattamenti di massa altamente paralleli di montaggio.

Il Gruppo di EV offre a produttori una gamma completa di soluzioni, compreso montaggio del bollo, la replica e l'integrazione matrici degli elementi ottici al livello del wafer basato sui sui sistemi affermati di allineamento di maschera e della litografia del nanoimprint. Il Suo portafoglio del prodotto è altamente versatile, permettendo ai clienti di applicare i trattamenti altamente su misura del software e del hardware. Accoppiato con lo sviluppo trattato e l'ottimizzazione negli impianti del locale senza polvere del Gruppo di EV, il Gruppo di EV fornisce una soluzione totale dalla configurazione di sistema ed il montaggio al knowhow trattato del materiale e di integrazione.

Gli Elementi di un di un modulo livello del wafer tipico della macchina fotografica comprendono un sensore di immagine di CMOS, le lenti polimeriche modellate sui portafili di vetro dalla litografia UV dell'impronta, i distanziatori ed i livelli dell'apertura diaframma, secondo le indicazioni di questa vista esplosa.
Sorgente: EVG.

Montaggio Matrice del Bollo

I bolli del Supervisore sono modelli di wafer-dimensione completamente popolati con le muffe ciascuna dei microlens ripiegati da un modello della singola lente in una punto-e-ripetizione (approccio di S&R). Cominciando fuori da un supervisore della singola lente fatto da metallo o da vetro, il Gruppo di EV offre un flusso trattato che riguarda tutti i punti trattati essenziali per il montaggio dei bolli matrici che caratterizzano le accuratezze ineguagliate di posizione della lente di <100nm e le alte ripetibilità di forma della lente richieste per la lavorazione del wafer di qualità superiore livellano i moduli della macchina fotografica.

Diversi punti di trattamento di S&R descritti dal Gruppo di EV:

  • Posizionamento di Alta precisione del modello della lente singola attraverso il wafer
  • La Gocciolina dispensa del materiale matrice del bollo
  • Incuni la forza compensativa o la prima impronta di alta precisione gestita distanza
  • Esposizione UV
  • Demolding

Si veda Prego la nostra GEN II NILStepper del prodotto relativo EVG®770 per informazione informazione dettagliata.

Modanatura UV di Microlens

La Litografia UV Morbida dell'Impronta è una tecnica altamente parallela per il montaggio dei microlenses polimerici, gli elementi chiave dei sistemi ottici del livello del wafer. Cominciando fuori dai bolli di lavoro molli ripiegati dai bolli del supervisore di wafer-dimensione, il Gruppo di EV offre i microlens ibridi e monolitici che modella i trattamenti che possono adattarsi facilmente alle varie combinazioni materiali per il lavoro dei materiali dei microlens e del bollo. Inoltre, il Gruppo di EV offre i microlens qualificati che modella il trattamento compreso tutto il knowhow materiale pertinente.

La Litografia UV Morbida dell'Impronta Ha Installato per il singolo e doppio modanatura laterale della lente.
Sorgente: EVG.

Diversi punti UV di trattamento del Modanatura descritti dal Gruppo di EV:

  • La Pozza dispensa del prepolimere ottico
  • Incuni la forza compensativa o l'impronta stata allineata gestita distanza
  • Esposizione UV
  • Demolding

Vedi Prego il nostro QUOZIENTE D'INTELLIGENZA Aligner® del prodotto relativo per informazione informazione dettagliata.

Scelga il wafer della lente del lato 300mm da costruzione dalla Litografia UV Morbida dell'Impronta.
Sorgente: EVG.

Legame UV Stato Allineato

L'ultima micro pila dell'ottica da costruzione da legame UV di tutti gli elementi, compreso i diversi doppi wafer laterali dei microlens come pure i wafer del distanziatore richiesti per raggiungere l'altezza di pila definitiva. I parametri Cruciali sono accuratezza di allineamento del lente--distanziatore, la variazione totale di spessore dell'interfaccia e della capacità di lavorazione schiave risultanti del wafer.

Le micro ottica tenute da adesivo UV impilano consistere dei wafer della lente e dei wafer del distanziatore.
Sorgente: EVG.

Punti trattati della Persona descritti dal Gruppo di EV:

  • Obbligazione UV stata allineata compensativa Cuneo
  • Esposizione UV

Diversi wafer del distanziatore e della lente di micro pila di ottica prima di legame UV.
Sorgente EVG, Cortesia di Aptina.

Vedi Prego il nostro QUOZIENTE D'INTELLIGENZA Aligner® ed il nostro Gemini® del prodotto relativo per informazione informazione dettagliata.

Sorgente: Gruppo di EV

Per ulteriori informazioni su questa sorgente visualizzi prego il Gruppo di EV

Date Added: Jan 17, 2011 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 14. June 2013 04:16

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