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Posted in | Nanomaterials

Chalmers 大学によって選択されるオックスフォードの器械の FlexAL ALD システム

Published on October 16, 2012 at 6:30 AM

世界の血しょう腐食および沈殿システムの主製造業者のオックスフォードの器械、 1 つは、最新式のクリーンルームのインストールのための FlexAL ALD システムを供給することをスウェーデンの Chalmers の工科大学によって選択したことを発表するために喜びます。

オックスフォードの器械の FlexAL システムは遠隔単一 ALD システム内の血しょう ALD プロセスの提供によって nanoscale 構造および装置の工学の柔軟性そして機能の新しい範囲をおよび熱 ALD 提供します。

原子層の沈殿は (ALD)本当の 「nano」技術で、正確に制御された方法で沈殿するように少数の nanometres の極めて薄いフィルムがします。 ALD の 2 つの定義特性は - 原子層によ層の成長および非常に等角のコーティングを自己限定します - 半導体工学、 MEMS および他のナノテクノロジーアプリケーションの多くの利点を提供します。 FlexAL システムは血しょう ALD によって可能になる材料および前駆物質の低温プロセスの選択の最大自在性を提供します; 遠隔血しょうの使用によって維持される多少の損害; そして調理法主導のソフトウェアインターフェイスによる制御可能で、反復可能なプロセス。

先生マット Hagberg、 Nanofabrication の実験室のプロセス用機器の専門家、スウェーデンの Chalmers の工科大学は、 「私達見ました私達のナノテクノロジーの研究の精密な厚さの非常に薄い言います、良質のフィルムのための高められた必要性を。 私達のプロセス実験室への原子層の沈殿機能をもたらすことは私達が新しいレベルに私達の terahertz、マイクロウェーブおよび量のコンポーネントの研究を取ることを可能にします。 FlexAL はそのベストが私達の技術仕様に」。一致させた市場の ALD システムでした

クリス Hodson、オックスフォードの器械の ALD のプロダクトマネージャーは 「TheFlexAL ALD のツールの提供を多くの新規アプリケーションの地域への研究開発のための理想的なプラットホーム言い、さまざまな材料を処理し、基板の広い範囲を扱う柔軟性があります。 私達の優秀なプロセスアプリケーションは団結し、私達の顧客があらゆる点でサポートされ、最大稼働時間および信頼性のための彼らのオックスフォードの計器システムで」。数えることができることを大域サービスサポートは保障します

Last Update: 16. October 2012 07:42

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