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Posted in | Nanomaterials

牛津仪器 Chalmers 大学选择的 FlexAL ALD 系统

Published on October 16, 2012 at 6:30 AM

牛津仪器,其中一个等离子铭刻和证言系统世界的关键制造商,高兴地宣布它由 Chalmers 科技大学选择在瑞典供应安装的 FlexAL ALD 系统他们的科技目前进步水平清洁的房间的。

牛津仪器 FlexAL 系统通过提供远程等离子 ALD 进程提供灵活性和功能的一个新的范围在 nanoscale 结构和设备工程和热量 ALD 在一个唯一 ALD 系统内。

基本层证言 (ALD)是真的 “纳诺”技术,允许一些 nanometres 超薄的影片存款用一个精密地受控方式。 ALD 的二次本质特征 - 自限制基本层由层增长和高度保形涂层 - 提供在半导体工程、 MEMS 和其他纳米技术应用的许多福利。 FlexAL 系统提供在等离子和前体低温进程启用的材料选择的最大的灵活性 ALD; 低的损害被维护使用远程等离子; 并且可控制,可重复的进程通过处方主导的软件界面。

博士席子 Hagberg,极小制作实验室的处理设备专家, Chalmers 科技大学在瑞典说, “我们看到了对非常准确的厚度稀薄,优质影片的增加的需要在我们的纳米技术研究的。 引入对我们的处理实验室的基本层证言功能使成为可能为了我们能采取我们的 terahertz、微波和数量要素研究对一个新的级别。 FlexAL 是在这个市场上的 ALD 系统该最搭配得不错我们的技术规格”。

克里斯 Hodson, ALD 牛津仪器的产品管理器说 “TheFlexAL ALD 工具聘用研究与开发的理想的平台到许多新建应用程序区域里,并且有这种灵活性处理多种材料和处理各种各样的基体。 我们非常好的处理应用合作,并且全球服务技术支持保证在他们的最大正常运行和可靠性的牛津仪器系统在各方面支持我们的客户并且能计数”。

Last Update: 16. October 2012 07:40

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