FernPlasma-AtomSchicht-Absetzungs- (ALD)Prozesse und Thermisches ALD Mit dem schicht-Absetzungs-Hilfsmittel FlexALTM (ALD) AtomVon Oxford-Instrumenten

Themen Umfaßt

Hintergrund

Eindeutiger Anlagennutzen

Prozesse

Produktpalette

Hintergrund

Oxford-Instrumente' FlexAL-Produktfamilie stellt eine neue Reichweite der Flexibilität und der Fähigkeit in der Technik von nanoscale Zellen und Einheiten vom Angebot Fernplasma von AtomSchicht-Absetzungs (ALD)prozessen und von thermischem ALD innerhalb einer Einzelanlage, um zu entbinden zur Verfügung:

•        Maximale Flexibilität in der Materialauswahl und Vorläufer

•        Niedrigtemperaturprozesse aktiviert durch Plasma ALD

•        Niedriger Schaden aufrechterhalten unter Anwendung von Fernplasma

•        Kontrollierbare, wiederholbare Prozesse über Rezept-gesteuerte Programmschnittstelle

Eindeutiger Anlagennutzen

•        Fähigkeit, vom kleinen Wafer zu handhaben bessert bis volle 200 mm-Wafers aus

•        Belastung-Verschlossener Wafereintrag zur Sicherheit, zur niedrigen Partikelzählung und zu kurzer Laden-zu-Prozessanlassvorgang Zeit

•        Eindeutiges Vorläuferliefersystem, das genauen Vorläufertemperaturregler mit Heißluftherd und optimierten erhitzten Druckleitungen anbietet

•        Integrale Handschuhschachtel auf Vorläuferblöcken für in-situumwechseln

•        Integrale Anschlüsse, zum des Zusatzes der ellipsometry Maßin-situhilfsmittel zu erlauben.

•        Passung in kompakten Platz von weniger als 2 x 2 m sogar mit Höchstzahl von Vorläuferblöcken

•        Kann in der Clusteranlage mit anderen Prozesshilfsmitteln, einschließlich Reichweite Oxford-Instrumente Plasmalab®System100 der Ätzungs- und Absetzungshilfsmittel integriert werden

•        Zurückgezogen durch die globale Verkäufe Oxford-Instrumente und Stütznetz; wenn die Plattformtechnologie auf dem populären Hilfsmittel des Prozesses PlasmalabSystem100 basiert ist, profitiert die FlexAL-Produktfamilie von nachgewiesener Zuverlässigkeit herein über 300 eingebauten Anlagen weltweit

•        Sich Entwickelt im Einvernehmen mit führenden AtomSchicht-Absetzungs (ALD)experten in Europa, in Korea und in USA

•        Genehmigte Technologie von ASM Internationales NANOVOLT

Prozesse

Die Standardverfahren, die auf den FlexAL-Anlagen erhältlich sind, umfassen:

•        AlO-23Fernplasmaverfahren - unten zur Raumtemperaturabsetzung

•        Hoch--K2 dielektrisches Fernplasmaverfahren HfO

•        Hoch--K2 dielektrischer Prozess Thermal ALD HfO

•        Zinnaußenübertragungsplasmaverfahren

Produktpalette

Die Produktfamilie FlexAL ALD besteht:

•        FlexALRP, das Fernplasma ALD anbietet

•        Angebot Fernplasma FlexALRPT und thermisches ALD in einer Einzelanlage, zum einer großen Auswahl der Vorläufer und der Prozesse bereitzustellen

•        FlexALRPX, welches die breiteste Reichweite der Vorläuferoptionen innerhalb des Fernplasmas und thermischen ALD, die Höchstzahl von Vorläuferlieferungsblöcken und von Absetzungstemperaturen bis zu ºC 700 habend anbietet

AZoNano - das A bis Z der Nanotechnologie - Konformes Feuerverzinnen durch Fernplasma AtomSchicht-Absetzung

Abbildung 1. Konformes Feuerverzinnen durch Fernplasma AtomSchicht-Absetzung (ALD)

AZoNano - das A bis Z der Nanotechnologie - Anlage FlexAL ALD

Abbildung 2. Anlage FlexAL ALD

Quelle: Oxford-Instrumente

Zu mehr Information über diese Quelle besuchen Sie bitte Oxford-Instrumente

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