La Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford Recibe Orden del Multisistema de la Universidad de Waterloo

La Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford (OIPT), el arranque de cinta en los sistemas para el grabado de pistas, la deposición y el incremento, ha recibido recientemente una orden de la Universidad de Waterloo, Ontario, Canadá del multisistema para la instalación en su nuevo recurso del recinto limpio. Las herramientas de proceso pedidas son los System100 de OIPT ICP + System133 PECVD, y una herramienta del Atado de FlexAL PECVD/ALD, con capacidad del tratamiento por lotes del multi-fulminante y el potencial para proporcionar a varias aplicaciones de proceso.

Las herramientas de OIPT ofrecen el soporte potente solo y los módulos de proceso clusterable, activando una amplia gama de aplicaciones, y la Universidad de Waterloo ejecutarán los sistemas para las técnicas de proceso múltiples. Éstos incluyen grabado de pistas del silicio de Bosch, de Cryo, el grabado de pistas del Semiconductor Compuesto, del Metal, PECVD. Además, una de las herramientas será agrupado para ofrecer a ALD capacidad de proceso, para depositar la capa conformal Al2O3.

Herramienta del System100 ICP de OIPT

El equipo será contenido en el recinto limpio en el Centro Quantum-Nano de Mike y de Ofelia Lazaridis, una nueva construcción avanzada ahora bajo construcción en el corazón de la Universidad del campus de Waterloo. El recurso, slated para la realización en 2011, será compartido entre el Instituto para Calcular de Quantum y el Instituto de Waterloo de la Nanotecnología.

La compra del equipo es hecha posible por el soporte abundante IQC recibe del Asiento de Canadá para la Innovación, el Fondo de Investigación de Ontario, la Universidad de Waterloo, y los homónimos del nuevo edificio, Mike y Ofelia Lazaridis.

Los Instrumentos de Oxford persiguen el revelado responsable y una comprensión más profunda del mundo con ciencia y tecnología, y esta pedido para otro nuevo centro de investigación de la Universidad es testamento a esa consolidación

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