粒度の分析の陶磁器のスリップ、重要性およびゼータの潜在性

カバーされるトピック

背景
陶磁器のスリップ
コロイド分散およびゼータの潜在性
結論
事歴 - Monodisperse 対陶磁器のスリップの通常製粉された粉

背景

粒度は陶磁器の製品の生産の最も重要なパラメータです。 粒度は望ましい物理的な/機械特性が達成されることを保障するために最適化されなければなりません。 陶磁器の製品の大半は型のスリップ鋳造のプロセスによって製造されます。 望ましい粒度分布の維持は陶磁器のスリップの分散の安定性の制御を必要とします。

陶磁器のスリップ

スリップは液体、通常およそ 1µm の粒度の水で、陶磁器 1つ以上の中断で、コロイドシステムとして考慮されるかもしれません。 沈殿が型の壁に均等に発生するように中断に残る粒子の機能の制御があることは重要です。

コロイド分散およびゼータの潜在性

コロイド分散では、安定性は粒子間の相互作用力によって制御されます。 粒子間の拒絶なしで、総計は形作ります。 ゼータの潜在性はこの相互作用の測定です。

結論

強いディフェクトフリーの製陶術の生産は知られていた粒度分布の十分分散させたスリップの作成によって得られます。

Malvern Zetasizer を使用してゼータの潜在的な測定は助け、よい分散の開発で集合の可能性を明記します。

  • 粒度および pH のようなプロセス変数の最適化がスリップ分散および制御製品品質を改善することを可能にします。
  • 分散を制御する量の添加物を定めて下さい。
  • 2nm に陶磁器の粒子のサイズを測定して下さい。
  • 事実上陶磁器のスリップのゼータの潜在的な測定。
  • 測定は速く、再生可能です。

事歴 - Monodisperse 対陶磁器のスリップの通常製粉された粉

1980 年代初期以来注意を高めることはより密なパッキングおよびより低い焼結の温度の取得のために monodisperse のミクロ以下の酸化物の粉の準備に製粉された材料と達成することができるより、支払われました。

表 1 は通常製粉された製品と比較される monodisperse の製品を使用して必要なより低い焼結の温度間の比較を与えたものです。

monodisperse の粉および通常製粉された製品のための表 1. の焼結の温度の比較。

焼結の臨時雇用者 (k)
酸化物 最初の粒度 (µm) 最終的な結晶粒度 (µm) Monodisperse の製品 一般に製粉された製品
TiO2 0.3 0.5 1273 1873
ZrO2 0.2 0.3 1273 1973 年
AlO23 0.25 0.5 1523 2023 年

チャンおよび最小の牙による最近の作業はミクロ以下のアルミナおよびジルコニアの粉からの陶磁器の合成のスリップ鋳造の正常な生産が中断の粉のゼータの潜在性で依存性が高いことを示しました。 中断媒体は分散の添加物の付加 - PAA (ポリアクリル酸) の有無にかかわらず水でした。 ゼータの潜在性対 Malvern の器械 Zetasizer 4. で23得られる ZrOand AlOwere の pH のプロット。  酸媒体が真剣にプラスター型をエッチングしたのでゼータの潜在性が 50mV より大きかったかところ、 2 つの材料の codisperse がよく pH 4-5 でそれらスリップ鋳造のために適していなかったが。 基本的な pH 領域では、プラスター型は媒体によってより少しエッチングされました。 ただし、粉は ZrO のそれと比較された大いにより小さい AlOzeta 潜在性のために基本的な媒体23で中断できませんでした2。 ただし、 PAA を追加することは粉のゼータ潜在性に対する劇的な効果をもたらしました。

図 1. ゼータの潜在性は対アルミナおよびジルコニアの鋳造のための pH のプロット入れます。

従って pH 10 で、両方の粉のゼータ潜在性は -50mV について粉容易に共同分散できますありました。

この情報は Malvern の器械株式会社によって提供される材料から供給され、見直され、そして適応させて。

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