2D Cavidade Óptica Fotónica - Pesquisa Actual nos Espelhos Saturable do "absorber" do Semicondutor (SESAM)

Assuntos Cobertos

Estudando os Espelhos Saturable do "absorber" do Semicondutor (SESAMs) que Usam Pontos do Quantum e Áreas de Aplicação para SESAMs

Os Processos para Fazer o Semicondutor do Comprimento De Onda Curto e Longo Espelhos Saturable do "absorber" (SESAMs) que Usam Materiais Gálio-Baseados

Espelhos Saturable do "absorber" do Semicondutor da Construção (SESAMs) nos Sistemas do Laser Para Conseguir o Modo-Travamento

Estudando os Espelhos Saturable do "absorber" do Semicondutor (SESAMs) que Usam Pontos do Quantum e Áreas de Aplicação para SESAMs

Os Processos para Fazer o Semicondutor do Comprimento De Onda Curto e Longo Espelhos Saturable do "absorber" (SESAMs) que Usam Materiais Gálio-Baseados

Nosso foco estará em SESAMs que opera-se ao redor de 400 - 430 nanômetro e do µm escala 1 - 1,55 de comprimento de onda. Nós cresceremos GaN e materiais relacionados usando o metal-orgânico-produto-vapor-depósito (MOCVD) para fazer o comprimento de onda curto (ao redor 410 nanômetro) SESAMs, usando poços do quantum de GaInN. Nós igualmente estudaremos materiais de GaInAsN e fabricaremos o poço SESAMs do quantum de GaInAsN para o comprimento de onda longo (1 - µm 1,55), usando o método expitaxy do crescimento (MBE) de cristal de feixe molecular. SESAMs que usa pontos do quantum de GaInAs será pesquisado igualmente.

Espelhos Saturable do "absorber" do Semicondutor da Construção (SESAMs) nos Sistemas do Laser Para Conseguir o Modo-Travamento

Nós aperfeiçoaremos as condições do crescimento, estudaremos as propriedades materiais por várias técnicas da caracterização, projectaremos as estruturas do dispositivo e o teste com projectos diferentes para as estruturas. Depois Que as fabricações do dispositivo estão completas, os dispositivos estarão construídos em sistemas do laser para conseguir o modo-travamento, para produzir o picosegundo aos femto-segundos pulsos ópticos ultra-curtos.

Source: NUS Nanoscience e Iniciativa da Nanotecnologia, Universidade Nacional Singapura

Para obter mais informações sobre desta fonte visite por favor o NUS Nanoscience e a Iniciativa da Nanotecnologia.

Date Added: May 26, 2005 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 01:43

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