Procesos Atómicos de la Deposición de la Capa del Plasma (ALD) Alejada y ALD Térmico Con La Herramienta Atómica de la Deposición de la Capa (ALD) de FlexALTM De los Instrumentos de Oxford

Temas Revestidos

Antecedentes

Ventajas de sistema Únicas

Procesos

Gama de Productos

Antecedentes

Familia de producto de FlexAL de los Instrumentos de Oxford la' proporciona a un nuevo rango de la adaptabilidad y de la capacidad en la ingeniería de las estructuras y de los dispositivos del nanoscale ofreciendo a plasma alejado procesos Atómicos de la Deposición (ALD) de la Capa y ALD térmico dentro de un único sistema para entregar:

·         Adaptabilidad Máxima en la opción de materiales y de precursores

·         Procesos A Baja Temperatura activados por el plasma ALD

·         Daño Inferior mantenido por el uso del plasma alejada

·         Procesos Controlables, repetibles vía interfaz receta-impulsada

Ventajas de sistema Únicas

·         La Capacidad de manipular del pequeño fulminante junta las piezas hasta de los fulminantes completos de 200 milímetros

·         asiento Carga-Bloqueado del fulminante por seguro, cuenta de partícula inferior y tiempo corto del cargamento-a-proceso-arranque

·         Sistema de envío Único del precursor que ofrece control de la temperatura exacto del precursor con el horno ventilator-ayudado y las líneas de salida heated optimizadas

·         Caja de guantes Integral en los módulos del precursor para el cambio "in-situ"

·         Accesos Integrales para permitir la adición de las herramientas ellipsometry "in-situ" de la medición.

·         Ajustes en espacio compacto de menos de 2 x 2 m incluso con el número máximo de módulos del precursor

·         Puede ser integrado en sistema del atado con otras herramientas de proceso, incluyendo el rango de los Instrumentos Plasmalab®System100 de Oxford de las herramientas del grabado de pistas y de la deposición

·         Retrocedido por las ventas de los Instrumentos de Oxford y la red globales del soporte; con la tecnología de la plataforma basada en la herramienta popular del proceso PlasmalabSystem100, las ventajas de familia de producto de FlexAL de la confiabilidad probada hacia adentro sobre 300 instalaron sistemas por todo el mundo

·         Convertido en consulta con expertos Atómicos de cabeza de la Deposición (ALD) de la Capa en Europa, y

·         Tecnología Autorizada de ASM NANOVOLTIO Internacional

Procesos

Los procesos Estándar disponibles en los sistemas de FlexAL incluyen:

·         Proceso alejado del plasma del AlO - hacia abajo a la deposición de la temperatura ambiente

·         Alto-k proceso alejado dieléctrico del plasma de HfO

·         Alto-k proceso dieléctrico la termal ALD de HfO

·         Proceso alejado del plasma del estaño

Gama de Productos

La familia de producto de FlexAL ALD consiste en:

·         FlexALRP que ofrece el plasma alejada ALD

·         Plasma alejada de ofrecimiento de FlexALRPT y ALD térmico en un único sistema para proporcionar a una opción amplia de precursores y de procesos

·         FlexALRPX que ofrece la gama más amplia de las opciones del precursor dentro del plasma alejada y de ALD térmico, teniendo el número máximo de módulos de la salida del precursor y de temperaturas de la deposición hasta el ºC 700

AZoNano - La A a Z de la Nanotecnología - esta6ado Conformal por la Deposición Atómica de la Capa del plasma alejada

Cuadro 1.

AZoNano - La A a Z de la Nanotecnología - sistema de FlexAL ALD

Cuadro 2.

Fuente: Instrumentos de Oxford

Para más información sobre esta fuente visite por favor los Instrumentos de Oxford

Date Added: Oct 11, 2006 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 12:57

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