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Oxford-Instrument-Plasma-Technologie Kündigt die Produkteinführung Beweglicher Anlage Nanofab 800 an

Published on September 3, 2009 at 6:21 AM

Führer in den Prozessen und in den Anlagen für die Ätzung, Absetzung und Wachstum, Oxford-Instrument-Plasma-Technologie (OIPT), hat gerade die Nanofab800Agile-Anlage gestartet. Dieses neue Hilfsmittel erweitert die Nanofab-Reichweite der in hohem Grade flexiblen Hilfsmittel und nachgewiesene Prozesse, welche Katalysatorbehandlung und kontrollierbares Wachstum von nanotubes und von nanowires, zusätzlich zum Entbinden des Standards und der hohen Temperatur PECVD entbinden.

Die Nanofab800Agile-Anlage liefert Entwicklungsgelegenheiten, das Wachstum von nanostructures zu beeinflussen. Mit Temperatur bis zu 800oC und beweglicher Heizung und dem Abkühlen für schnelle Umlaufzeit entbindet die Anlage auch Regelung der Ausrichtung und Abmessungen der nanostructures.

Zusätzlicher Nutzen umfaßt variable Stichprobengrößen bis bis den Wafers des Maximums 200mm, zur ausgezeichneten Temperatureinheitlichkeit und zum beweglichen Temperaturregler. Die Anlage wird mit einer Vakuumschleuse konfiguriert, um Prozesswiederholbarkeits- und Kammersauberkeit sicherzustellen.

Ein wahlweise flüssiges Quellliefersystem und mit für einen Kunden entwickelnter Installation für ausgerichtetes Wachstum und Regelung des Filmdruckes Kennzeichnend, hat das Nanofab800Agile die Fähigkeit, in den Hochdruck- und hohen Abflussmodellen aufzubereiten.

Ian McKinlay, Älterer Produkt-Manager für OIPT kommentiert, „Während eine Firma wir uns ständig bemühen, das Produktangebot zu unseren Abnehmern zu verbessern. Dieser späteste Zusatz zu unserer Reichweite bedeutet, dass unsere Abnehmer von erweiterten Funktionen, wie schneller Heizung und abkühlenden Schleifen profitieren, ausgezeichnete Temperatureinheitlichkeit und prozesskontrolliert. Dieses wird durch umfangreiche Prozessbibliothek OIPTS und die Anwendungssachkenntnis unterstützt, kombiniert mit unserer Verpflichtung gegenüber laufendem ausgezeichnetem Kundendienst und Halterung.“

Last Update: 13. January 2012 19:30

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