Oxford Instruments Tecnología de plasma anuncia el lanzamiento de NanoFab 800 Agile System

Published on September 3, 2009 at 6:21 AM

Líder en procesos y sistemas para el grabado, la deposición y el crecimiento, Oxford Instruments Tecnología de plasma (OIPT) , acaba de lanzar el sistema Nanofab800Agile. Esta nueva herramienta amplía la gama NanoFab de herramientas altamente flexibles y procesos probados que proporcionan el tratamiento catalizador y controlable crecimiento de los nanotubos y nanocables, además de la entrega de PECVD temperatura estándar y de alta.

El Sistema de Nanofab800Agile ofrece oportunidades de desarrollo para influir en el crecimiento de las nanoestructuras. Con la calefacción a temperaturas de hasta 800 º C, y ágil y de refrigeración para el sistema de respuesta rápida también ofrece un control de la alineación y las dimensiones de las nanoestructuras.

Los beneficios adicionales incluyen tamaños de muestra variables hasta un máximo de obleas de 200 mm, uniformidad de temperatura, control de temperatura y ágil. El sistema está configurado con un bloqueo de carga de vacío para asegurar la repetibilidad del proceso y la limpieza de la cámara.

Con un sistema opcional de fuente líquida de entrega, y con la configuración personalizada desarrollada para el crecimiento alineado y control del estrés película, el Nanofab800Agile tiene la capacidad de proceso de alta presión y sistemas de alto flujo.

Ian McKinlay, director de producto senior para comentarios OIPT, "Como compañía nos esforzamos constantemente para mejorar la oferta de productos para nuestros clientes. Esta última incorporación a nuestra gama significa que nuestros clientes se beneficiarán de características avanzadas, tales como los ciclos de calentamiento y enfriamiento rápido, uniformidad de temperatura y control de procesos. Esto está respaldado por la biblioteca de extenso proceso OIPT y la experiencia de las aplicaciones, en combinación con nuestro compromiso de servicio permanente al cliente excelente y apoyo ".

Last Update: 7. October 2011 18:04

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