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Lieferung der Ersten Optischen Anlage von Carl Zeiss Schließt sich Liste von Positiven Nachrichten Über EUV-Lithographie an

Published on September 16, 2009 at 8:27 AM

Carl Zeiss, der führende Hersteller der Welt von optischen Anlagen für Chip-Fälschung, hat jetzt eine komplette optische Anlage für einsatzbereite Extreme Ultraviolette Lithographie (EUVL), eine neue Technologie für Mikrochipfälschung entbunden. Diese optische Anlage bildet einen Kernblock des ersten EUVL-Produktionssystems vom Niederländischen Hersteller und vom langfristigen Partner zu Carl Zeiss, ASML. Die Lieferung der kompletten EUVL-Anlage, beginnend mit einer Rate von 60 Wafers pro Stunde, wird in der zweiten Hälfte 2010 geplant. Es ist für Produktion von Mikrochips mit Zellen in der 20-Nm-Reichweite bestimmt

vor „15 Jahren, starteten wir Forschung und Entwicklung der EUV-Lithographie und haben weit über 100 Million Euros seit damals investiert,“ Berichte Dr. Peter Kürz, EUV-Programm-Direktor bei Carl Zeiss SMT in Oberkochen. „Bis jetzt, hat ASML zwei Verfahrensentwicklungshilfsmittel rund um den Globus eingebaut. Jetzt ist sein Gebrauch in der Massenproduktion von Mikrochips innerhalb der Reichweite.“

Diese Technologie, für von dem die Entwicklung Peter Kürz und sein Team für den Zukünftigen Preis des Deutschen BundesPräsidenten im Jahre 2007 ernannt wurden und von dem mit insgesamt über 20 Million Euros durch das Deutsche Erziehungsministerium und die Forschung und an einer Europaebene finanziert worden ist, bietet langfristiges Potenzial für laufende Miniaturisierung von Chip-Zellen an. Sie funktioniert mit einer Berührungswellenlänge von 13,5 nm-fast 15mal, die als die 193-gebräuchliche nm-Technologie aktuell kürzer sind. Dank diese Wellenlänge der kurzen Berührung, ist es möglich, die Größe von Chip-Zellen zu verringern und ihre Speicherdichte zu erhöhen.

ASML hat bereits fünf Ordnungen für das EUVL-Produktionssystem empfangen, wenn die Lieferungen im Jahre 2010 beginnen. „Unsere neuen Erfolge sind wichtige Meilensteine, die zeigen, dass EUVL ausgezeichneten Fortschritt als kosteneffektive einzelne kopierende Technologie macht. EUVL hat die Auflösungsleistung, Moores Gesetz über dem folgenden Jahrzehnt hinaus zu tragen,“ sagt Christen Wagner, Älterer Produkt-Manager an ASML.

Andere positive Nachrichten hinsichtlich der Entwicklung von EUVL, das während der letzten Wochen veröffentlicht wird, schließen Optimismus aus. Das Institut des Belgiers IMEC (Löwen) zum Beispiel vor kurzem berichtet über die erfolgreiche Produktion von 22 nm SRAM-Zellen unter Verwendung des EUV-Verfahrensentwicklungshilfsmittels eingebaut in seinen Teildienst. Verglichen mit dem vorhergehenden Technologieknotenpunkt, ergab dieses eine 44% Verringerung in der Chip-Oberfläche Bereich-und deshalb eines möglichen Halbierens von Produktionskosten. Der Hersteller von Laserstrahllichtquellen für Lithographie, die In den Vereinigten Staaten ansässige Firma Cymer, entband vor kurzem die erste Quelle für Integration in die EUVL-Produktionssysteme ASMLS, die im Jahre 2010 passend sind.

Technologie

In der Lithographie werden der Kernprozess, der in der Chip-Fälschung verwendet werden, die Besonderemuster für Schaltungen, die Transistoren und die Kondensatoren optisch von einer Maske auf den Wafer übertragen. Zu diesem Zweck sind eine Beleuchtungsanlage und eine Projektionsanlage in einen Waferscanner integriert. Je kürzer die Wellenlänge der Leuchte verwendet für die Lithographie, desto feiner die Muster, die kann mit ihr produziert werden. Leuchte mit einem extrem kurzwelligen von 13,5 nm wird für EUV-Lithographie verwendet. Beleuchtung und Abbildungsoptik bestehen deshalb aus mehreren, die sequenziell, verwickelt geformten Spiegeln anstelle der Objektive angeordnet werden, die normalerweise bis jetzt verwendet werden. Die erzielte Auflösung aktiviert hohe Chip-Verpackung Dichte-und deshalb höher Chip-Leistung. EUV-Lithographie bietet das Potenzial des Fortsetzens des Miniaturisierungsprozesses, der praktisch seit der Erfindung von integrierten Schaltungen für mindestens einen anderen stattgefunden hat Jahrzehnt-und deshalb sich entwickelnde Mikrochips mit Leistungsgraden an, die heute undenkbar sind.

Last Update: 13. January 2012 18:49

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