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L'Accouchement du Premier Système Optique de Carl Zeiss Joint la Liste de Nouvelles Positives Au Sujet de la Lithographie d'EUV

Published on September 16, 2009 at 8:27 AM

Carl Zeiss, le premier constructeur du monde de systèmes optiques pour la fabrication de puce, a maintenant fourni un système optique complet pour la Lithographie Ultra-violette Extrême prête à produire (EUVL), une technologie neuve pour la fabrication de microprocesseur. Ce système optique forme un module de noyau du premier système de production d'EUVL du constructeur Néerlandais et de l'associé à long terme à Carl Zeiss, ASML. L'Accouchement du système complet d'EUVL, commençant à un taux de 60 disques par heure, planification dans la deuxième moitié de 2010. On le destine pour la production des microprocesseurs avec des structures dans la chaîne du Nanomètre 20

il y a « 15 ans, nous avons lancé la recherche et développement de la Lithographie d'EUV et l'avons investi loin au-dessus de 100 millions d'Euros depuis lors, » M. Peter Kürz, Directeur du Programme d'états d'EUV chez Carl Zeiss SMT dans Oberkochen. « Jusqu'à présent, ASML a installé deux instruments de développement de processus dans le monde entier. Maintenant son utilisation dans la production de masse des microprocesseurs est dans l'extension. »

Cette technologie, pour le développement dont Peter Kürz et son équipe ont été nommés pour la Future Récompense du Président Fédéral Allemand en 2007, et qui a été financée avec l'un total de plus de 20 millions d'euros par le Ministère De L'éducation Allemand Et la Recherche et à un Niveau européen, offre le potentiel à long terme pour la miniaturisation actuelle des structures de puce. Elle fonctionne avec une longueur d'onde d'exposition de 13,5 nanomètres-presque 15 fois plus courtes que la technologie du nanomètre 193 actuel en service. Grâce à cette longueur d'onde de courte exposition, il est possible de réduire la taille des structures de puce et d'augmenter leur densité d'intégration.

ASML a déjà reçu cinq commandes pour le système de production d'EUVL, avec des accouchements commençant en 2010. « Notre réussite récente est des étapes importantes qui prouvent qu'EUVL accomplit l'excellent progrès comme technologie de structuration unique rentable. EUVL a l'alimentation électrique de définition de transporter la Loi de moore au delà de la décennie suivante, » dit le Chrétien Wagner, Chef de Produit Supérieur à ASML.

D'Autres nouvelles positives au sujet du développement d'EUVL publié pendant les dernières semaines justifient l'optimisme. L'institut du Belge IMEC (Louvain), par exemple, récent enregistré au sujet de la production réussie de 22 cellules du nanomètre SRAM utilisant l'instrument de développement de procédé d'EUV installé dans son dextérité. Comparé au noeud précédent de technologie, ceci a eu comme conséquence une réduction de 44 % de la surface de puce zone-et pour cette raison de se réduire de moitié potentiel des coûts de production. Le constructeur des sources lumineuses à rayon laser pour la lithographie, la compagnie Basée aux États-Unis Cymer, récent a fourni la première source pour l'intégration dans les systèmes de production de l'EUVL d'ASML dus en 2010.

Technologie

En lithographie, le procédé de noyau utilisé dans la fabrication de puce, les configurations de détail pour des circuits, des transistors et les condensateurs sont optiquement transférés à partir d'un masque au disque. À cet effet, un système de flash et un système de projection sont intégrés dans un balayeur de disque. Plus la longueur d'onde de la lumière utilisée pour la lithographie est courte, plus sont fines les configurations qui peut être produit avec elle. La Lumière avec extrêmement un à ondes courtes de 13,5 nanomètres est utilisée pour la Lithographie d'EUV. Les blocs optiques d'Illumination et de projection se composent pour cette raison de plusieurs séquentiellement disposés, miroirs compliqué formés au lieu des objectifs normalement utilisés jusqu'ici. La définition réalisée active l'emballage de puce densité-et pour cette raison plus haut la performance élevés de puce. La Lithographie d'EUV offre le potentiel de continuer le procédé de miniaturisation qui a eu lieu pratique depuis l'invention des circuits intégrés pour au moins l'un autre décennie-et pour cette raison de microprocesseurs se développants avec les niveaux de performance qui sont inconcevables aujourd'hui.

Last Update: 13. January 2012 17:25

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