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ASML Annonce le Projet de Développement Conjoint avec des STMicroelectronics Pour Accélérer 28 nanomètre et Développement de Noeud de 22 nanomètre

Published on December 3, 2009 at 2:11 AM

ASML (NASDAQ : ASML) (Amsterdam : ASML), avec ses Technologies auxiliaires de Brion, a aujourd'hui annoncé un projet de développement conjoint grand-scoped avec des STMicroelectronics (ST) pour accélérer le déploiement de noeud de 28 nanomètre et le développement de noeud de 22 nanomètre.

Ce projet de développement conjoint, le SOLIDE portant le nom de code (Optimisation d'impression de Silicium avec le contrôle de Lithographie et le Design Intégré), recherche à optimiser le procédé de structuration du design à la fabrication, à étendre des outils de caractérisation et des méthodes pour développer des techniques neuves de correction/compensation pour réduire la variabilité et à explorer des solutions de lithographie de découverte pour fabriquer les puces complexes aux noeuds de sub-30-nm.

Le ST fonctionnera avec la Co-optimisation de Source-masque de Tachyon™ SMO en tandem avec les sources avancées de l'illumination d'ASML, y compris l'illuminateur programmable récent annoncé de FlexRay™. Ensemble Tachyon SMO et FlexRay fourniront des cycles de développement plus rapides de ST dans la R&D et un rampe plus rapide à la production. Jusqu'à maintenant, le ST a avec succès utilisé la correction optique de proximité de Tachyon OPC+ de Brion et le manufacturability de lithographie de LMC signent sa production de 45 nanomètre.

« Ce projet de développement conjoint combiné avec la suite intégrée d'ASML des produits de lithographie, y compris les solutions de calcul de Brion et le dernier rétablissement du balayeur de TWINSCAN NXT fournit au ST de calcul et les technologies de lithographie de disque qui nous permettront de développer les solutions optimas de fabrication à 28 nanomètre et ci-dessous, » a dit Joël Hartmann, Directeur de Développement des Technologies de Silicium pour des STMicroelectronics, chez Crolles, la France. « En Outre cet effort de ST-ASML est un renforcement de la batterie coopérative de R&D de Crolles, qui recueille des associés autour du développement et de l'activation de SoC (Système de basse puissance sur la Puce) et de technologies spécifiques à l'application à valeur ajoutée. C'est un parfait exemple d'un projet développé dans le cadre du programme Nano2012.  » (1)

« En Tant Qu'abonnée à long terme d'ASML, ST est un excellent associé avec qui pour explorer et développer des méthodes holistiques de lithographie pour produire les semi-conducteurs avancés, » a dit Bert Koek, le vice-président principal, groupe de produits d'applications à ASML.

Last Update: 13. January 2012 11:13

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