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La Technologie de Plasma d'Instruments d'Oxford Reçoit la Commande de Système Multiple de l'Université de Waterloo

Published on April 29, 2010 at 6:27 AM

La Technologie de Plasma d'Instruments d'Oxford (OIPT), l'amorce dans des systèmes pour gravure à l'eau forte, le dépôt et l'accroissement, a récent reçu une commande de système multiple de l'Université de Waterloo, Ontario, Canada pour l'installation dans leur dextérité neuve de cleanroom. Les outils de processus commandés sont les System100 d'OIPT ICP + System133 PECVD, et un outil de Batterie de FlexAL PECVD/ALD, avec la capacité en lots de multi-disque et le potentiel pour fournir un certain nombre d'applications de processus.

Les outils d'OIPT offrent le gabarit puissant seul et les modules de processus clusterable, activant un large éventail d'applications, et l'Université de Waterloo mettront en application les systèmes pour des techniques de processus multiples. Ceux-ci gravure à l'eau forte comprennent de Bosch, de Cryo silicium, gravure à l'eau forte de Semi-conducteur Composé, En Métal, PECVD. De plus, un des outils sera groupé pour offrir à ALD la capacité de processus, pour déposer la couche Al2O3 conformée.

Outil du System100 ICP d'OIPT

Le matériel sera renfermé au cleanroom chez Mike et au Centre de Quantum-Nano d'Ophélie Lazaridis, un établissement de pointe neuf maintenant en construction au coeur de l'Université du campus de Waterloo. L'installation, slated pour l'achèvement en 2011, sera partagée entre l'Institut pour Quantum Calculant et l'Institut de Waterloo de la Nanotechnologie.

L'achat du matériel est rendu possible par le support généreux IQC reçoit de la Fondation du Canada pour l'Innovation, les Fonds de Recherche d'Ontario, l'Université de Waterloo, et les homonymes du bâtiment neuf, Mike et Ophélie Lazaridis.

Les Instruments d'Oxford poursuit le développement responsable et la compréhension plus profonde du monde par la science et technologie, et cette commande pour une autre installation de Recherche universitaire neuve est testament à cet engagement

Last Update: 12. January 2012 22:41

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