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Posted in | Nanofabrication

オックスフォードの器械血しょう技術はナノテクノロジーの協会から順序を受け取ります

Published on September 15, 2010 at 9:18 AM

腐食、沈殿および成長システムのオックスフォードの器械血しょう技術、リーダーは Nanoelectronics (CEN) の優秀な研究機関からバンガロ、インドの科学 (IISc) のインドの協会で、最近 3 つの血しょう腐食および沈殿ツールのための発注を受け取ってしまいました。 3 つの System100 ツールは CEN の最新式の nanofabrication 機能の 2 つの PlasmaPro™ System100 ICP のコブラの腐食のツールおよび PlasmaPro 1 つの System100 PECVD のツールの新しいクリーンルームに成るために置かれ。

血しょうエッチングおよび沈殿プロセスのための適用範囲が広く、強力な解決は、 System100 のロードロックされたウエファーエントリプロセスガスの速いウエファー交換、最も広い範囲および拡張プロセス温度較差を可能にします。 化合物半導体のための最大プロセス柔軟性を、光電子工学、 photonics、 MEMS および microfluidics アプリケーション、 PlasmaPro System100 血しょう etcher および沈殿ツール許可することは IISc によって発注される ICP および PECVD オプションを含む多くの構成が、あることができます。

2 つの ICP-RIE システムおよび PECVD システムは CEN、マルチユーザーの各国用機能である IISc で必要な最も広い範囲のプロセスのために設定されました。 腐食化学は多ケイ素、ケイ素酸化物、窒化珪素およびいろいろな金属をエッチングするために機能を含んでいます。 処理するケイ素に加えて高速の、高周波力トランジスターのための GaAs および GaN のプロセスケイパビリティのためのツールは設定されますまた。 PECVD システムは慣性センサーのための構造材料として MEMS センサー、低温の酸化物および非常に厚い多ケイ素の膜のための圧力によって設計される窒化物を可能にします。

IISc の電気通信工学の部門からの注釈 Prof.Navakanta Bhat、 「私達は彼らの優秀なプロセス均等性のためのシステムオックスフォードの器械」発注することを選択し、サポートの高レベルは会社によって提供しました。 私達はスタッフおよび彼らの自発性の技術的な機能によってパートナーとして顧客を考えると彼らの顧客と、働く特に印象づけられました。

私達の新しい機能は Nano 科学の中心のための新しい建物 (90,000 sq.ft) の 14,000 sq.ft のクリーンルームが付いている国の種類の 1 つおよび工学です (焼香して下さい)。 最新式のクリーンルームは研究者の多様な必要性に食料調達する最もよいツールを収納しオックスフォードの器械」システムは私達が必要とするプロセスおよびリーディングエッジの技術の幅を提供します。 オックスフォードの器械」システム IISc が Nanoscale の電子工学および MEMS を含むいくつかの領域のフロンティアの研究を、遂行し、企業によって」。は商業的に開発することができる技術の作成の私達の目標の達成を助けることを可能にします

Vosloo の販売をマークして下さい及びオックスフォードの器械血しょう技術のためのカスタマ・サポートディレクターはこの順序と私達の革新的な国際的レベルの製品に頼れるそれらのための経験を持っている」。に間、 「私達の顧客」先行技術およびサービスによる必要性会う私達の機能からの重要なインドの研究所の結果からの 1 年のこの第 2 順序喜びます

Last Update: 12. January 2012 10:50

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