Posted in | Nanofabrication

De Technologie van het Plasma van de Instrumenten van Oxford Ontvangt Orde Van het Instituut van de Nanotechnologie

Published on September 15, 2010 at 9:18 AM

De Technologie van het Plasma van de Instrumenten van Oxford, leider etst binnen, deposito en de de groeisystemen, heeft onlangs een orde ontvangen want plasma drie etst en deposito van het Expertisecentrum In Nanoelectronics (CEN) bij het Indische Instituut van Wetenschap (IISc) in Bangalore, India hulpmiddelen. De drie hulpmiddelen System100 zullen in de CEN ruimte van de faciliteit van de overzichtsnanofabricatie worden gesitueerd nieuwe schone en zullen bestaan uit twee ICP van PlasmaPro™ System100 Cobra etsen hulpmiddelen en één hulpmiddel PECVD van PlasmaPro System100.

Een flexibele en krachtige oplossing voor plasma ets en depositoprocessen, de System100 lading-gesloten wafeltjeingang staat snelle wafeltjeuitwisseling, de breedste waaier van procesgassen en een uitgebreide waaier van de procestemperatuur toe. Het Toestaan van maximumprocesflexibiliteit voor samenstellingshalfgeleider, opto-elektronica, photonics, van MEMS en van microfluidics toepassingen, het plasma van PlasmaPro System100 etcher en depositohulpmiddel kan vele die configuraties, met inbegrip van de opties hebben ICP en PECVD door IISc worden bevolen.

De twee systemen icp-RIE en de systemen PECVD zijn voor de breedste die waaier van processen gevormd bij CEN, IISc worden vereist, die een nationale faciliteit voor meerdere gebruikers is. Ets chemie omvatten het vermogen om poly-silicon, siliciumoxyde, siliciumnitride en een verscheidenheid van metalen te etsen. Naast de siliciumverwerking, worden de hulpmiddelen ook gevormd voor GaAs en GaN procesvermogen voor hoge snelheid, de transistors van de hoge frequentiemacht. Het systeem PECVD laat spanning gebouwd nitride voor sensoren MEMS, lage temperatuuroxyde en zeer dik poly-silicon membraan als structureel materiaal voor traagheidssensoren toe.

Commentaren Prof.Navakanta Bhat van het Ministerie van Elektro Communicatie Techniek in IISc, „Wij verkozen om de systemen van Oxford opdracht te geven tot van de Instrumenten' voor hun superieure die procesuniformiteit, en het hoge niveau van steun door het bedrijf wordt aangeboden. Wij werden in het bijzonder op door de technische mogelijkheden van het personeel en hun bereidheid indruk gemaakt om met hun klanten te werken, die de klant beschouwen als partner.

Onze nieuwe faciliteit zal één van zijn soort in het land met een schone ruimte 14.000 sq.ft in een nieuw gebouw (90.000 sq.ft) voor het Centrum voor Nano Wetenschap en Techniek (CeNSE) zijn. De overzichts schone ruimte zal de beste hulpmiddelen huisvesten, die zich op de diverse behoeften van onderzoekers richten, en de systemen van de van Oxford Instrumenten' bieden de breedte van processen en voorrandtechnologie aan die wij hebben gewenst. De systemen van de Instrumenten van Oxford' zullen IISc toelaten om grensonderzoek op een aantal gebieden uit te voeren, omvattend elektronika Nanoscale en MEMS en hulp bereik ons doel technologieën tot stand te brengen die commercieel door de industrie kunnen worden benut.“

Merk Vosloo, de Verkoop & De Directeur van de Klantenondersteuning voor de Technologie van het Plasma van de Instrumenten van Oxford opgetogen met deze orde, „Deze tweede orde in een jaar van resultaten van een de belangrijke Indische van Onderzoekinstituut van onze capaciteit zijn om onze klanten' behoeften door gevorderde technologie en de dienst te ontmoeten, terwijl het hebben van de ervaring voor hen zich op onze innovatieve producten van wereldklasse kunnen baseren.“

Last Update: 12. January 2012 09:59

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit