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शीर्ष विश्वविद्यालय लचीले प्रौद्योगिकी, स्थानीय सेवा और समर्थन के बल पर EVG सिस्टम का चयन

Published on September 23, 2010 at 9:27 AM

EV) समूह (EVG , MEMS, नैनो, और अर्धचालक बाजारों के लिए एक वफ़र संबंधों और अश्मलेखन उपकरणों के एक प्रमुख आपूर्तिकर्ता, आज की घोषणा की है यह विज्ञान के राजा अब्दुल्ला विश्वविद्यालय के लिए एक EVG520IS अर्द्ध स्वचालित वफ़र संबंध प्रणाली और दो ​​EVG6200 स्वचालित संरेखण प्रणाली भेज दिया गया है और सऊदी अरब में प्रौद्योगिकी (KAUST). स्नातक स्तर के संस्थान में छात्रों को उन्नत प्रौद्योगिकी अनुसंधान और विकास के क्षेत्र में प्रौद्योगिकी कंपनियों से KAUST को आउटसोर्स परियोजनाओं सहित, के लिए EVG उपकरण का प्रयोग करेंगे.

EVG है पहली मध्य पूर्व में मुख्यालय ग्राहक, KAUST सितंबर 2009 में खोला और अरब राज्यों के भीतर सबसे बड़ा, सबसे आधुनिक cleanroom है कि खाड़ी सहयोग परिषद (जीसीसी) शामिल दावा: कुवैत, बहरीन, सऊदी अरब, कतर, संयुक्त अरब अमीरात और ओमान . कंपनी के लिए एक महत्वपूर्ण जीत है, इस क्रम EVG है अपने ग्राहकों के लिए नए उभरते बाजारों में आर एंड डी स्तर पर विशेष रूप से, केन्द्रित विश्व स्तरीय तकनीक और ग्राहक सहायता देने की क्षमता के लिए आदेश है. पिछले साल अकेले में, EVG Arlington, मिशिगन Lurie Nanofabrication सुविधा, सिंगापुर, यूरोप Imec में माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक संस्थान विश्वविद्यालय में टेक्सास विश्वविद्यालय से अनुसंधान एवं विकास और विश्वविद्यालय से संबंधित परियोजनाओं के विस्तार का समर्थन करने के लिए आदेश प्राप्त हुआ है, और आरएफआईडी / कोरिया में USN केंद्र.

KAUST EVG कई महत्वपूर्ण क्षमताओं पर आधारित उपकरणों, उन्हें 'सिस्टम प्रतिरूपकता और लचीलापन होने के बीच प्रमुख चुना. विश्वविद्यालय EVG6200 बंधन संरेखण और nanoimprint अश्मलेखन (शून्य) के लिए एक, और अन्य लिथोग्राफी मुखौटा संरेखण के लिए उपयोग की योजना है. डॉ. Xixiang जांग, KAUST के Nanofabrication इमेजिंग, और विशेषता कोर लैब प्रबंधक के अनुसार, "हम EVG 'सिस्टम के प्रदर्शन और multitask करने की क्षमता है, जो महान मूल्य के अनुसंधान परियोजनाओं की किस्म पर काम करने में किया जाएगा के साथ प्रभावित थे कि विश्वविद्यालय के उपक्रम है. इसके अलावा, EV समूह इसके लिए हमें उत्कृष्ट ऑनसाइट प्रक्रिया और इतना है कि हमारी स्थानीय जरूरतों को जल्दी से और कुशलता से पूरा किया जा सकता है आवेदन का समर्थन के साथ प्रदान करने की क्षमता साबित कर दी है. "

EV समूह के कार्यकारी प्रौद्योगिकी के निदेशक पॉल Lindner ने कहा, "KAUST के साथ कार्य करना EVG के लिए एक महत्वपूर्ण मील का पत्थर है, के रूप में दुनिया के इस क्षेत्र में प्रौद्योगिकी गतिविधि का विस्तार जारी है इसके अलावा, इस प्रतिष्ठित संस्था के साथ काम कर रहे प्रमुख विश्वविद्यालयों के साथ हमारी भागीदारी में आगे कदम के निशान और दुनिया भर में अपने आज की चुनौतियों के लिए समाधान विकसित करने के रूप में अच्छी तरह के रूप में प्रगति है कि भविष्य की जरूरतों को संबोधित करेंगे पता लगाने के प्रयासों में अनुसंधान फर्मों. "

EV समूह (EVG) अर्धचालक, MEMS, और नैनो अनुप्रयोगों के लिए वफ़र प्रसंस्करण समाधान में एक विश्व नेता है. अपने वैश्विक ग्राहकों के साथ निकट सहयोग के माध्यम से, कंपनी अपनी लचीली विनिर्माण मॉडल लागू करने के लिए विश्वसनीय, उच्च गुणवत्ता, कम लागत के स्वामित्व प्रणाली है कि आसानी से ग्राहकों 'फैब लाइनों में एकीकृत कर रहे हैं विकसित. प्रमुख उत्पादों के संबंध मे, लिथोग्राफी / लिथोग्राफी nanoimprint (शून्य) और मैट्रोलोजी उपकरण, के रूप में अच्छी तरह से photoresist coaters, क्लीनर और निरीक्षण सिस्टम शामिल हैं.

वफ़र bonders के लिए बाजार के प्रमुख साझा करने के लिए अलावा, EVG NIL और उन्नत पैकेजिंग और MEMS के लिए लिथोग्राफी में एक प्रमुख स्थान रखती है. इन पंक्तियों के साथ, कंपनी 2006 में EMC-3D संघ सह बनाने के लिए और प्रमुख एकीकृत परिपथों और MEMS / सेंसर के लिए एक लागत प्रभावी माध्यम से सिलिकॉन के माध्यम से प्रक्रिया (TSV) के कार्यान्वयन ड्राइव में मदद की स्थापना की. अन्य लक्ष्य अर्धचालक से संबंधित बाजारों सिलिकॉन-on-विसंवाहक (SOI), यौगिक अर्धचालक और सिलिकॉन आधारित बिजली डिवाइस समाधान शामिल हैं.

1980 में स्थापित, EVG सेंट फ्लोरियन, ऑस्ट्रिया में मुख्यालय है, और Tempe, Ariz में सहायक के साथ एक वैश्विक ग्राहक सहायता नेटवर्क के माध्यम से संचालित, Albany, NY, योकोहामा और Fukuoka, जापान, सियोल, कोरिया और चुंग ली, ताइवान . कंपनी के अद्वितीय ट्रिपल दृष्टिकोण मैं (आविष्कार - नवीनताएँ - को लागू) एक ऊर्ध्वाधर एकीकरण के द्वारा समर्थित है, EVG जल्दी नई प्रौद्योगिकी के घटनाक्रम को जवाब करने के लिए, विनिर्माण चुनौतियों का सामना करने के लिए प्रौद्योगिकी लागू है और उच्च मात्रा में डिवाइस के निर्माण में तेजी लाने की इजाजत दी.

Last Update: 3. October 2011 12:11

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