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Posted in | Nanoenergy

Nanoparticle इंक प्रौद्योगिकी अनुप्रयोगों के लिए फोटोवोल्टिक अल्ट्रा पतली सिलिकॉन वेफर्स उद्धार

Published on April 25, 2011 at 4:10 AM

कैमरून चाय

एप्लाइड नैनोटेक होल्डिंग्स 6 मई को अपनी नई सुविधा में सौर स्याही की अपनी सीमा का अनावरण करेंगे. एल्यूमीनियम, तांबा, निकल, और चांदी से मिलकर प्रौद्योगिकी के अलावा aerosolized जेट, inkjet और स्प्रे कोटिंग तकनीक का उपयोग करेगा गैर संपर्क मुद्रण विधियों पी.वी. अनुप्रयोगों के लिए अल्ट्रा पतली सिलिकॉन wafers देने.

वर्तमान में सौर सेल वेफर्स मोटी क्रम में करने के लिए सीधे संपर्क धातुरूप प्रक्रियाओं, जो स्क्रीन प्रिंटिंग उपकरणों की तैनाती वफ़र के लिए संपर्क और एक दबाव डालती है कि अल्ट्रा पतली wafers टुकड़ा कर सकते हैं का सामना करने की जरूरत है. सिलिकॉन सौर कोशिकाओं में इस्तेमाल कुल उत्पादन लागत का 50 से 60% का प्रतिनिधित्व करता है. Inkjet, एयरोसोल जेट और स्प्रे कोटिंग के रूप में गैर - संपर्क विधि पतली wafers का उपयोग करके लागत बचत सुनिश्चित करेगा.

डा. ZVI Yaniv, कंपनी के मुख्य कार्यकारी अधिकारी का कहना है कि नैनो आधारित भनक तरीकों केवल सौर सेल, लेकिन यह भी फसल सौर ऊर्जा की लागत को कम करने और एक सबसे महत्वपूर्ण नवीकरणीय ऊर्जा उपलब्ध विकल्प के रूप में सौर बनाए रखने में मदद नहीं करेगा.

कंपनी सितंबर 2010 में मौजूदा परियोजना के विकास के लिए ऊर्जा विभाग के माध्यम से कराई वसूली अधिनियम धन के भाग के रूप में 1.6 करोड़ डॉलर सरकारी अनुदान प्राप्त. कंपनी ऑस्टिन, टेक्सास में एक और आगे 4000sqft की खरीद करने में मदद के लिए कंपनी के विकास और धातु पतली सिलिकॉन सौर कोशिकाओं पर मुद्रित स्याही होने मॉडल निर्माण, और सौर ऊर्जा के क्षेत्र में रोजगार का सृजन.

विकास कंपनी अपनी नैनो कण स्याही, के रूप में के रूप में अच्छी तरह से अपनी गैर संपर्क प्रिंटिंग प्रौद्योगिकी लाइसेंस के लिए और अन्य खिलाड़ियों को प्रोत्साहित करने के लिए बाजार में प्रवेश की अनुमति देगा.

स्रोत: http://www.appliednanotech.net

Last Update: 9. October 2011 03:15

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