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Microspectrometer为半导体的​​非破坏性分析

Published on July 3, 2011 at 9:08 PM

欢乐氛围技术已开发出半导体产业的新的解决方案:20/20 XL薄膜厚度测量工具。 20/20 XL是一个microspectrophotometer设计,以非破坏性分析非常大样本的微观领域。该系统提供的能力来衡量传输和反射薄膜的厚度。

它还提供的能力来衡量随着半导体和其他类型的样品的紫外线和近红外显微镜,拉曼光谱,显微样本。由于其灵活的设计,这使得它最大的样品进行分析的能力,应用很多,包括大型设备的薄膜厚度映射,定位和识别污染物,测量中的硅应变等等。随着频谱分析和微观样本图像或大型设备的微观领域的能力,20/20 XL microspectrophotometer anufacturing设施尖端的微观分析工具。

“欢乐氛围技术已在紫外可见近红外自成立以来的微量领域的创新,我们已经帮助推进微观分析与创新仪器仪表,软件,研究和教学领域的20/20 XL microspectrophotometer出生从我们的工业客户的需求,能够非常大的设备的微观特征的小斑膜厚度测量,显微拉曼光谱成像从深紫外光到近红外“的欢乐氛围技术公司总裁保罗马丁博士,国家。 “因此,我们已经听取了我们的客户,创造了20/20 XL,支持通过多年的经验,在设计,建设和使用这种仪器的光谱和图像分析系统。”

20/20 XL microspectrophotometer提供先进的薄膜厚度测量单位,拉曼光谱仪,先进的紫外可见近红外范围内镜下,高清晰度数字成像,功能强大,易于使用的软件。这种灵活的仪器设计附加到大的框架,可容纳大规模的样本。这是能够获得非常大的样品的显微特征,通过吸收,反射或甚至发光光谱数据。包括高分辨率的数码成像,用户也能够使用一个紫外或红外显微镜仪器。此外,欢乐氛围阿波罗拉曼光谱仪模块可能会增加,所以用户还可以获取小现场拉曼光谱。触摸屏控制,先进的软件,校准可变光圈和所有其他创新点,一个新的水平微量的复杂。随着高灵敏度,耐用的设计,易于使用的,多种成像和光谱技术,自动化和欢乐氛围技术的支持,20/20 XL不仅仅是一个质量控制测量工具更多...它是解决您所面临的各种分析方面的挑战。

20/20 XL薄膜厚度测量工具和科学的完美视觉欲了解更多信息,请访问 http://www.microspectra.com/ 。

Last Update: 3. October 2011 01:35

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