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Posted in | Nanofabrication

主持 Nanoscale 等离子的牛津仪器处理讨论会

Published on August 23, 2011 at 1:22 AM

在星期二牛津仪器保留研讨会其成功的系列,有一一天的 ‘处理’活动的 Nanoscale 等离子在格勒诺布尔,法国 10月 18日。 此讨论会与从事在行业的所有那些人员将是特别相关的和学术界,与兴趣在研究与开发预付款上,加上将来的趋势在微 & 纳诺结构和设备的制造和应用。

组织由牛津仪器等离子技术,这个活动进行在有名望的法国研究中心 CEA-LETI 在格勒诺布尔,法国。 这次讨论会将包括介绍,讨论和网络连接午餐,着重在 MEMS 铭刻发展的最新的创新,离子束铭刻和证言、基本层证言、硅和 III-V 铭刻 nanowire 应用和更多的。

我们高兴从关键研究所的被邀请的客户报告人讨论他们的研究并且包括: 丹尼尔 Alquier, Directeur, LMP 教授,游览; 从 IEMN 的一位报告人,里尔; 并且亚历克斯鲁宾逊,伯明翰大学博士,英国。 另外,在他们的领域的专家从牛津仪器将发表演讲关于最新的进程和应用程序开发在一定数量的等离子过程区。

“我们主持这些成功的研讨会全世界几年,最近在 IOS-CAS 在中国,劳伦斯伯克利国家实验室美国,并且南安普敦大学,英国,吸引许多科学家对每个活动”,备注麦克 Smyth, EMEA 业务经理,牛津仪器等离子技术, “我们选择了格勒诺布尔,当我们的下个培训地点,因为它是创新的一个插孔在法国。 这些讨论会是学术和行业技术专家的一个妙极机会对网络并且共享想法”。

没有此讨论会的充电,然而预订是重要的。

Last Update: 11. January 2012 05:52

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