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Gruppo e Eulitha di EV Da Collaborare sulla Produzione del Nanostructures Facendo Uso delle Tecniche di Litografia

Published on January 10, 2012 at 7:52 PM

Il Gruppo di EV (EVG), un fornitore principale della strumentazione di legame e della litografia del wafer per il MEMS, nanotecnologia e servizi a semiconduttore, oggi hanno annunciato che ha firmato uno sviluppo congiunto e un accordo di licenza con Eulitha AG, un pioniere e guida nella produzione dei nanostructures di alta qualità facendo uso delle tecniche avanzate della litografia.

EVG integrerà alla la tecnologia ultravioletta basata a maschera di fotolitografia del PHABLE di Eulitha ( (UV)TM) con la piattaforma automatizzata del prodotto del aligner della maschera di EVG con lo scopo di trovare una soluzione (CoO) nanopatterning di basso costo de proprietà per permettere alla produzione dei diodi luminescenti di alto-luminosità (HB-LED). Con le capacità della dimostrazione sul posto già, i primi prodotti si pensano che spediscano alla fine di quest'anno.

Secondo le Strategie della società di ricerca di mercato del LED Illimitate (Mountain View, California), il servizio per alto-luminosità LED si pensa che si sviluppi da $11,2 miliardo nel 2010 a $16,2 miliardo nel 2014, guidato dalle applicazioni quali il backlighting, i dispositivi mobili della TV e sempre più accendendosi. Per rispondere a questa esigenza aumentata, i produttori del LED hanno bisogno di nuove soluzioni di fabbricazione che possono aumentare il risparmio di temi di illuminazione dei loro prodotti mentre tengono i costi di produzione giù. Con il loro accordo di sviluppo congiunto, il Gruppo e Eulitha di EV esploreranno le nuove tecnologie di fabbricazione che supportano i requisiti del costo e della tecnologia dei produttori del LED.

Combinando la tecnologia a tutto campo dell'esposizione di Eulitha con la piattaforma affermata di allineamento di maschera di EVG fornisce il montaggio a basso costo e automatizzato dei nanostructures fotonici sopra le ampie aree e supporta la produzione del LED di ottimo rendimento, delle pile solari e dei display a cristalli liquidi. Combina le capacità di uso facile e senza contatto di basso costo, della litografia di prossimità con risoluzione di submicron--facendola adatta idealmente per uso in substrati di modello dello zaffiro per migliorare l'estrazione leggera (e così il risparmio di temi) delle unità del LED. EVG pianificazione offrire un sistema PHABLE-permesso a EVG620 come estensione alla sua piattaforma affermata del sistema di allineamento di maschera--dando a clienti una scelta ancora più ampia delle opzioni di configurazione.

“Aspettiamo con impazienza di lavorare con il Gruppo di EV notevolmente per accelerare la commercializzazione di PHABLE con l'integrazione di questa tecnologia novella con la piattaforma leader del settore del aligner della maschera di EVG,„ Harun Solak, CEO specificato di Eulitha. “Crediamo che le sinergie delle nostre rispettive tecnologie abbiano grande potenziale di fornire le capacità di produzione in volume e di risoluzione degli steppers della litografia ad una frazione del costo--permettendo ai produttori del LED, di ottica e di fotonica con i vincoli di costo estremamente limitati l'opportunità di estendere le loro carte stradali di tecnologia fino i livelli elevati della prestazione.„

Hermann Waltl, le vendite esecutive e Direttore Celebre del servizio clienti, Gruppo di EV, “la competenza di Eulitha nella nanofabbricazione incita loro un partner ideale per collaborare con sulle nuove soluzioni di modello per l'industria del LED. Siamo eccitati per intraprendere questa relazione con Eulitha e per avanzare la nostra piattaforma provata del aligner della maschera per i nostri clienti del LED.„

Last Update: 11. January 2012 04:22

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