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Posted in | Nanofabrication

Maskenjustierungs-Anlage der EV-Gruppen-Produkteinführungs-Zweiten Generation Völlig Automatisierte für HB-LED Hersteller

Published on February 8, 2012 at 10:03 PM

EV-Gruppe (EVG), ein führender Lieferant der Wafermasseverbindung und Lithographiegerät für den hoch entwickelten Halbleiter und die Verpacken, Verbindungshalbleiter, MEMS, Silikon-aufisolator (SOI) und auftauchende Nanotechnologiemärkte, kündigten heute das EVG620HBL GEN II an--die zweite Generation automatisierte völlig Maskenjustierungsanlage für Volumenherstellung von Hochhelligkeit Leuchtdioden (HB-LED).

Eingeführt, ein Jahr nachdem die Produkteinführung des Erste-Generations- EVG620HBL, das GEN II eine Hilfsmittelplattform entbindet, die hergestellt wird, um HB-LED Abnehmer-spezifischen Bedarf und die laufende Nachfrage Gesamt-Kosten-vonbesitz Reduzierung anzusprechen. Das EVG620HBL GEN II optimiert auch Hilfsmittelabdruck in dem tollen--das Entbinden von 55 Prozent höheren Waferausgabe für jedes Quadratmeter Cleanroomplatz verglich mit wettbewerbsfähigen Zubringern.

Das EVG620HBL GEN II--die zweite Generation automatisierte völlig Maskenjustierungsanlage für Volumenherstellung von Hochhelligkeit Leuchtdioden von EV-Gruppe.

Dr. Thomas Uhrmann, der Manager der wirtschaftlichen Entwicklung für EV-Gruppe, beachtet, „der HB-LED Markt ist dynamisch und schnell ändernd, und unsere Abnehmer benötigen ständig innovative Lösungen sicherzustellen, dass ihre Ausgabe und Investitionen maximiert werden. Das EVG620HBL GEN II ist ein großes Beispiel von, wie EVG schnell auf den Bedarf seiner Abnehmer reagiert, indem es seine Sachkenntnis in HB-LED Herstellung wirksam einsetzt, um eine effektive Lösung zu entbinden. Eine nachgewiesene Plattform bereits, aufbauend, die jetzt mit unserem Erste-Generationsmaskenjustierungshilfsmittel ein tatsächliches industriekompatibles ist, erwarten wir, dass das EVG620HBL GEN II verbreitert weiter den wirtschaftlichen Abstand über wettbewerbsfähigen Zubringern.“ Heute werden bonders EVGS und Maskenausrichtungstransporte durch vier der Spitzenfünf bedeutenden HB-LED Hersteller ausgefahren.

Entwicklungsnachfragen nach Kostenaufstellung und Ertragverbesserungen benötigen, dass Gerätenanbieter überdenken, was sie zum Tabelle im Hinblick auf Gesamtkosten des Besitzes holen. Dies gilt mit Maskenjustierung für Lithographie in der, besonders Ertrag maximierend, ist kritisch zur Erfüllung des langfristigen Wachstumspotenzials von LED-Technologie. Das EVG620HBL GEN II wird mit einem Hauptrechner von neuen Merkmalen anstrebte die spezifischen Nachfragen der befriedigenden Großserien (HVM)herstellungsabnehmer ausgestattet:

  • Erhöhtes Mikroskop, das automatisierte Maskenvorlagerecherche unterstützt, die
    verringert weiter Maskeninstallation und Änderungszeit--das kritisch sind
    zum Aktivieren der kontinuierlichen Einheitsproduktion in HVM-Umgebungen;
  • Aktualisiertes handhabendes Roboterlayout mit dem Wafer, der Fähigkeit abbildet, die
    unterstützt die Nachfrage nach Wafernachweisbarkeit;
  • Verbesserte Ausrichtungsfähigkeit (Zeile Ausrichtung), die wirksam einsetzt
    Gitter, die einzelne LED für Orientierung markieren, anstatt zu benötigen
    Vorschubzeichen, die wertvollen Platz auf dem Wafer aufnehmen;
  • Verringerter Anlagenabdruck, den Gesamtkosten des Besitzes für optimiert
    Operation und Zunahmen, die der Wafer pro Abdruck markieren.

Zusammen befestigen diese Verbesserungen zum EVG620HBL GEN II aktivieren eine 20-Prozent-Reduzierung im Kosten-pro-aufbereiteten Wafer, der mit wettbewerbsfähigen Zubringern verglichen wird.

Aufgebaut auf Masken-Ausrichtungstransportplattform EVGS Bereich-erwiesener, kennzeichnet die EVG620HBL-Serie eine Intensitäts (UV)uV-Licht Quelle und eine wahlweisefilterlüftereinheit, um Ertrag zu maximieren und den höchsten Waferdurchsatz der Industrie von bis 165 Sechsinch Wafers pro Stunde (bis 220 Wafers pro Stunde im Druckvorlagemodus) zu aktivieren. Ein Anderes Hauptmerkmal des EVG620HBL ist die Verfügbarkeit von speziellen Rezept-kontrollierten Mikroskopen, deren Beleuchtungsspektrum unterschieden werden und optimiert werden kann, um den besten Musterkontrast mit verschiedenen Wafer- und Schichtmaterialien, einschließlich solche hoch entwickelte Substratflächenmaterialien wie Saphir, Silikonkarbid (Sic), Aluminium-Nitrid (AlN), Metall und keramisches sicherzustellen. Die EVG620HBL-Serie bereitet 2 - zu den 6-Zoll- Wafers auf.

Das EVG620HBL GEN II ist für Kauf sofort erhältlich. Zu mehr Information über dieses Hilfsmittel, besuchen Sie bitte www.evgroup.com oder besuchen Sie die Firma an den Strategien in der Hellen Konferenz in Santa Clara, Calif. vom 7. bis 9. Februar 2012. Dr. Thomas Uhrmann EVGS stellt sich auf „Hoher Durchsatz-Lithographie und Metallwafer-Masseverbindung dar: Zwei Aktivierende Technologien für Zukünftige Hoch-Helligkeit LED“ bei der Konferenz am Donnerstag, den 9. Februar zu Pazifischer Zeit 8:30a.m.

Last Update: 14. February 2012 09:41

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