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收容所研究宣佈先進的 AFM 討論會在 UIUC

Published on February 19, 2012 at 5:08 PM

收容所研究、技術領先者在掃描探測和基本強制顯微學 (SPM/AFM) 和 Frederick 塞茨材料研究實驗室 (FSMRL)伊利諾伊大學的爾般那平原 (UIUC),宣佈先進的 AFM 討論會在 2012年 3月 21-22。

這次討論會將結合教育演講和指導儀器演示、以及技巧、竅門和新的技術在基本強制顯微學。 事宜將包括電子描述特性 (導電性 AFM、 SKPM, EFM), Piezoresponse 強制顯微學 (PFM)、多頻的技術、新的掃描技術的 nanomechanical 描述特性和一個指南在伊戈爾讚成軟件。 UIUC 研究員也將存在對 PFM、定量 nanotube 評定,以及聯合的 AFM 和喇曼分光學的當前研究。 除 UIUC 人事部之外,這次討論會也開始對要瞭解更多關於這些先進的 AFM 掃描技術的其他研究員。

賈森克利夫蘭,收容所研究的 CEO,注意, 「200 位使用我們的儀器的 AFM 研究員和學員在 UIUC 的 FSMRL。 這是我們的一個非常好的機會能教育,培訓和通過沿我們的知識對設立和上升和來的研究員作為我們支持科學家的繼續的承諾一部分明天。 扣人心弦的研究從許多部門出來在 UIUC,并且我們是非常喜悅的收容所 AFMs 是他們的科學發現的一個重要部分」。

威廉 L. 威爾遜、首席中央設施 Frederick 塞茨材料研究實驗室,附註的科學家和主任, 「作為極小製作和 nanoscale 工程移動向這個主流,需要對大多分析工具是明顯的。 曾經被認為異乎尋常的研究系統有成為的耕馬工具的瀏覽的探測 microscopies 喜歡 AFM。 是非常重要的我們的用戶基地繼續是精通與行業的最新的技術和技術。 此討論會為所有學科的研究員將提供唯一機會瞭解這些技術如何可能變換他們的研究」。

被添加的斯科特 MacLaren, AFM 運算的主任 MRL 的, 「我們是非常喜悅主持有收容所的先進的 AFM 討論會。 這是一個例外機會從關於先進的 AFM 技術的專家瞭解。 我們的目標是使此討論會一樣實用和有利儘可能為所有我們的研究員」。

小的註冊費 $40 對午餐和中斷的討論會將收費兩日。 參與者必須登記在 http://mrl.illinois.edu/AFM2012/。 附加信息,并且可以在 http://www.AsylumResearch.com/Events/UIUC2012/ 找到。

Last Update: 22. February 2012 01:34

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