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開路 NanoLab 從牛津儀器添加 RIE 和 PECVD 工具

Published on March 27, 2012 at 9:11 AM

科技目前進步水平納米技術關連的研究的, NanoLab@TU /e 開放存取設備在荷蘭,繼續擴展其功能,與二個新的牛津儀器等離子系統的最近添加。

NanoLab@TU /e, TU/e 的鏡像

「PlasmaPro System100 RIE 和 PlasmaPro System100 ICP-PECVD 工具是補充已經現有的工具箱投入處理 III-V 光子的設備,許多是牛津儀器工具」的多用途系統,說埃爾溫 Kessels,等離子教授 & 材料加工組,應用物理學, TU/e. 部門 「他們加強我們的以及為我們的在 NanoLabNL 主動性內的合作夥伴的我們自己的研究的功能。 他們也補充我們的潔淨室的廣泛的 ALD 功能,那已經包含二 FlexAL 和一個蛋白石等離子和熱量 ALD 系統從牛津儀器」。

Kessels 教授繼續, 「通過這個功能運行 F-,并且分類化學, PlasmaPro System100 RIE 工具將使用為 「標準」處理硅包含的材料 (SiO2、 Si3N4, Si) 以及為銘刻更多 「異乎尋常的」材料例如 NbN」。

鈮氮化物薄膜蝕刻用於製造 nanostructured 超導的單一光子探測器。 对此應用 TU/e 需要由電子射線石版印刷和蝕刻定義在 5 nm 厚實的 NbN 影片的 ultranarrow (50 毫微米) 收縮,與基於 F 的化學。

當發生的設備冷靜冷卻到 4 K 并且被偏心接近重要當前時,在收縮區域吸收的單一光子 (和只那裡) 提升一個超導抗拒轉移,導致電壓脈衝。 這導致與少量十倍的一個空間分辨率的一臺單一光子探測器 nm,可能為與史無前例的區分的近域想像使用。

標記 Vosloo,銷售額和客戶支持主任牛津儀器等離子技術的認可此另外的系統銷售額的重要性, 「我們清楚,靈活,并且可靠的系統和處理提供有導致全球性地變得很多個納米技術的研究所有經驗作為牛津儀器成就卓越中心。 幾個長期關係開發了在研究中心和我們的公司之間,并且 TU/e 是我們高興合作的其中一設置。 我們的客戶取決於我們的經驗提供這項最先進和創新技術和服務,達到他們的科學目標」。

Last Update: 28. March 2012 20:22

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