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Posted in | Nanofabrication

牛津仪器生成 PlasmaPro Estrelas100 硅铭刻工具

Published on June 19, 2012 at 12:19 PM

在等离子铭刻的领导先锋和证言处理系统,牛津仪器等离子技术,赢取了其最近被生成的 PlasmaPro Estrelas100 深硅铭刻工具的指令,从按照严谨选择过程的多伦多大学。

这个系统为大学的中央微型和 (ECTI)极小制作设备、服务的学术研究与开发需要,以及培训的功能的涌现的通讯技术学院被采购了。

PlasmaPro Estrelas100 深刻的硅铭刻技术提供行业主导的处理性能,并且,开发想着 R&D 市场,这个系统提供最终在处理灵活性。 纳诺和微结构可以认识到作为硬件设计了以这个能力运行 Bosch™和 cryo 铭刻技术在同一个房间。

从平稳的侧壁进程到高铭刻费率洞铭刻, PlasmaPro Estrelas100 被设计保证大范围 MEMS 应用可能达到,不用需要更换房间硬件。

备注 Yu 太阳, ECTI 的主任, “为 MEMS 的此先进的工具和 NEMS 教授将使 ECTI 开展有效的学科研究。 创新的加拿大基础 (CFI)资助了采购和委任各种各样的重要工具包括 DRIE 和为中心的其他工具为在化学和生物的 Microfluidic 系统。 我们选择了牛津在设备质量的仪器的 PlasmaPro Estrelas100、性能和功能,以及牛津仪器提供的非常好的系统支持”。

PlasmaPro Estrelas100 为与战略伙伴的合作研究将使用,在关键研究领域,包括纳米技术和极小制作、光子的材料和设备、微型和纳诺机电系统 (M/NEMS),生物工艺学、微型和纳诺电子设备、集成光学和光致电压的设备。

“牛津仪器等离子技术继续提供在 MEMS 市场上解决现有的和涌现的应用的技术”,评论标记 Vosloo,牛津仪器等离子技术销售额 & 行销经理, “有一个清楚的进程和应用投资组合的,我们的技术启用许多应用今天被识别的和那些明天。 在 20 年期间在 MEMS R&D 的经验我们了解这个市场,并且处理我们的客户的需要提供他们以可用最创新的工具”。

Last Update: 19. June 2012 13:18

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