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Posted in | Nanomaterials | Nanoenergy

Nano--Zwischenlage Technik-Hilfen Verringern Produktionskosten Dünnschichtsolarzellen

Published on June 26, 2012 at 6:02 AM

Durch Willen Soutter

Staat North Carolina Hochschulforscher haben eine neue Technik entwickelt, um Ultra-dünnfilm Solarzellen zu fabrizieren, ohne die Solarenergieabsorptionsfähigkeit zu kompromittieren, Wegbereitung, um Produktionskosten der Solarzellen so zu verringern.

Die aktive Schicht (blaue Zeile) wird zwischen Schichten dielektrischem Material eingeschoben.

Die Forscher haben über ihrer Technik in einem gebetitelten Papier`Dielektrisches Kern-Shell Optische Antennen für Starke SolarAbsorptions-Verbesserung' in der Webfassung von Nano-Schreiben berichtet. Mitverfasser, Dr. Linyou Cao informierte sich, dass die Forscher die Solarzellen fabrizierten, die eine ` nanoscale Zwischenlage' Auslegung verwenden, die Schicht eines ultradünnen ` Active' miteinbezieht. Zum Beispiel hat die Solarzelle, die von den Forschern erstellt wird, eine bloße 70 aktive Schicht des nm-starken formlosen Silikons, wenn sie mit aktiver Schicht des formlosen Silikons 300-500-nm-thick existierenden Handelsdünnschichtsolarzellen verglichen wird.

In einer Solarzelle wird Solarenergie durch diese aktive Schicht für Umwandlung in chemischen Kraftstoff oder in Strom absorbiert. Die neue Technik kann mit anderen Solarzellenmaterialien, die angewendet werden kupfernes Indiumgalliumselenid, Kadmiumtellurid und organische Materialien umfassen, angegebener Cao. Die Technik hängt hauptsächlich von den traditionellen Produktionsverfahren ab, aber stellt ein total anderes Endprodukt her.

Der erste Schritt bezieht den Gebrauch von typischen Lithographietechniken mit ein, Muster auf der Substratfläche zu bilden und umreißt die Zellen, die aus transparentem, dielektrischem Material mit Abmessungen von 200-300 nm bestehen. Dann ist eine aktive Schicht des ultradünnen formlosen Silikons über der Substratfläche und den nanostructures überzogen, gefolgt von der Beschichtung einer anderen Schicht des dielektrischen Materials. Das Vorhandensein von dielektrischen nanostructures unterhalb der Activeschicht bildet einen Dünnfilm, der die erhöhten Oberflächen kennzeichnet, die gleichmäßig während des Filmes gesperrt werden und ähnelt Zinnen über einem mittelalterlichen Schloss.

Cao gab an, dass ein Hauptmerkmal dieser neuen Technik Auslegung der ` nanoscale Zwischenlage' ist, worin die aktive Schicht zwischen zwei dielektrischen Schichten eingeschoben wird. Die nanostructures benehmen sich wie in hohem Grade effiziente optische Antennen, die die Solarenergie in Richtung zur aktiven Schicht fokussieren. Dieses aktiviert den Gebrauch von einer dünneren Schicht aktivem Material ohne kompromittierende Leistung. Andererseits in der traditionellen Dünnschichtauslegung, erhält die Leistungsfähigkeit der Solarzelle betroffen, wenn eine dünnere aktive Schicht verwendet wird.

Quelle: http://www.ncsu.edu/

Last Update: 26. June 2012 06:41

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