ATopTech 在臺灣積體電路製造公司的 20 毫微米參考流包括安排和途徑解決方法

Published on October 11, 2012 at 5:47 AM

ATopTech,在下一代物理設計解決方法的領導先鋒,今天宣佈 Aprisa™和 ApogeeTM、公司的位置和途徑解決方法,在臺灣積體電路製造公司的 20nm 參考流包括。

臺灣積體電路製造公司的 20nm 加工技術比早先生成提供更好的性能和低功率衝減。 臺灣積體電路製造公司和 ATopTech 在合併在 20nm 參考流的 ATopTech 工具解決 20nm 的增長的設計挑戰合作。

許多新技術在 Aprisa 和遠地點被開發啟用客戶設計成功在 20nm :

  • 雙仿造的技術 (DPT)運輸路線規律技術支持
  • 顏色意識運輸路線
  • DPT 運輸路線的分層結構設計流
  • Vt 分鐘寬度標準
  • GDS 空間的檢查電壓標記
  • TCD/ICOVL 插入
  • 限定範圍細胞插入

「ATopTech 的 P&R 技術為先進技術設計特別地 architected」, Jue-Hsien Chern, ATopTech 的 CEO 說。 「我們嚴密地與臺灣積體電路製造公司一起使用開發改進保證最佳的製造的最高 routability 20nm 設計的。 從臺灣積體電路製造公司的 20nm 參考流的採用繼續我們的任務提供客戶以在選件類物理設計工具的最好為先進的進程」。

「我們高興地包括 ATopTech 的 Aprisa P&R 工具到臺灣積體電路製造公司 20nm 參考流」,營銷分部說 Suk 李,臺灣積體電路製造公司高級主任,設計基礎設施。 「在 ATopTech 和臺灣積體電路製造公司之間的接近的協作將幫助啟用我們的聯合客戶的成功的 20nm 項目」。

來源: http://www.Atoptech.com

Last Update: 11. October 2012 06:22

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