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Los Materiales Aplicados Han Anunciado su nuevo Sistema Aplicado de FullVision que Activa el Mando En Tiempo Real de los Procesos Dieléctricos del CMP al Nodo del Dispositivo 45nm y Más Allá

Published on November 30, 2007 at 12:28 PM

Applied Materials, Inc. anunciaron su nuevo sistema Aplicado de FullVision™ que activa el mando en tiempo real de los procesos dieléctricos CMP1 al nodo del dispositivo (nm) de 45 nanómetros y más allá. Los pares de fuerzas del sistema de FullVision Aplicados patentaron tecnología de la ventana-en-pista con espectroscopia de la múltiple-longitud de onda para entregar la capacidad in situ avanzada de la punto final para una variedad de materiales dieléctricos, incluyendo el óxido, STI2, y aplicaciones polivinílicas del CMP. El sistema demuestra alta repetibilidad a través de todas las aplicaciones con menos de 150 el angstrom, exactitud de la punto final de la sigma 3 en los fulminantes modelados. Un avance importante sobre únicas tecnologías de la punto final de la longitud de onda, el sistema de FullVision ofrece exactitud mejorada de la medición con una confiabilidad más alta del 50% para las aplicaciones dieléctricas.

“La tecnología de la punto final del CMP fue promovida por los Materiales Aplicados y es dominante a entregar funcionamiento del CMP de la prueba patrón,” dijo al Dr. Hichem M'Saad, vicepresidente y director general los Sistemas Dieléctricos de los Materiales Aplicados' y Unidad de Negocio del CMP. “Mientras Que las películas llegan a ser más finas, el CMP llega a ser cada vez más difícil, requiriendo mando de proceso de un fulminante-a-fulminante mucho más exacto lograr rendimientos aceptables. Usando análisis espectral de banda ancha, la tecnología de FullVision vigila zonas de pulido individuales a través del fulminante para proporcionar dos veces a la exactitud y a la repetibilidad de sistemas competitivos en una amplia variedad de pasos de progresión del proceso - sin la producción de compromiso. Éstos son requisitos vitales para el dispositivo avanzado que fabrica.”

El sistema de FullVision ha sido adoptado ya por los clientes importantes de la memoria en sus sistemas Aplicados del CMP de Reflexion® LK en la fabricación en grandes cantidades. Para estos clientes, el sistema ha activado un rendimiento más alto del CMP importante reduciendo la chatarra del fulminante causada por las desviaciones en conjuntos fungibles y variaciones entrantes del perfil del fulminante.

Los Materiales Aplicados llevan la industria en tecnología del CMP - con una base instalada de más de 900 sistemas del CMP de 300m m por todo el mundo - y en proporcionar a la metrología in situ avanzada para asegurar funcionamiento del planarization de la mejor-de-raza. Vea http://appliedmaterials.com/products/reflexion_lk_cmp_4.html para más información sobre el sistema Aplicado de la punto final de FullVision.

Last Update: 17. January 2012 09:37

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