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Los Investigadores Desarrollan la Capa Nueva de la Fino-Película Usando la Herramienta de FlexAL ALD de los Instrumentos de Oxford

Published on February 12, 2009 at 6:46 AM

Los Investigadores han desarrollado una capa nueva de la fino-película que proporcionaba a un nivel incomparable de pasivación superficial de las células solares de silicio cristalinas. Usando la herramienta de FlexAL® ALD de los Instrumentos de Oxford, las personas de la Universidad Tecnológica de Eindhoven (TU/e) mostró que las capas ultrafinas del óxido de aluminio depositadas por el plasma alejada ALD superan capas existentes de la pasivación en términos de eliminación - normalmente importante - de las bajas electrónicas en las células solares detrás y las superficies delanteras.

Herramienta de Flexal® ALD de los Instrumentos de Oxford'

Los Instrumentos de Oxford modificaron sus herramientas populares de FlexAL para requisitos particulares y de OpAL™ para esta aplicación específica, que ha dado lugar a ventas múltiples a la industria rápidamente cada vez mayor de la célula solar.

El revelado facilita las eficiencias del descubrimiento para una clase importante de células solares. Esto fue demostrada recientemente en la colaboración entre TU/e y el Instituto de cabeza de Fraunhofer para la Investigación De energía solar (ISE) en Alemania. Una eficiencia de 23,2% fue obtenida para las células solares del PERL basadas en el n-tipo silicio por la aplicación de una capa ultrafina del óxido de aluminio en la parte de la célula solar. Hasta la fecha el p-tipo parte de esta clase de células solares era duro de apaciguar y la mejoría de la eficiencia relativa del 6% es por lo tanto un avance importante.

Encantan a Chris Hodson, Director de Producto de ALD en la Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford con esta investigación, el “Dr. Kessels y el Plasma y el grupo del Tratamiento (PMP) de Materiales en TU/e están activando los límites de la investigación de ALD en áreas de la nueva aplicación. Este descubrimiento de la tecnología dominante usando nuestras herramientas de ALD está creando interés real, y me siento confiado nuestra colaboración continuada con TU/e traeré otros avances en esto y otras áreas de la tecnología.

El Dr. Kessels comenta, la “pasivación Superficial es un tema importante para la tecnología cristalina de la célula solar de silicio, un tipo de célula solar que domine el 90% del mercado fotovoltaico. Muchas capas de la película fina se han estudiado para reducir bajas electrónicas en las superficies delanteras y traseras de las células solares. Hasta hace poco tiempo no se encontró ningunos apaciguar satisfactoriamente el p-tipo altamente dopado superficies de células solares de la siguiente-generación basadas en el n-tipo más de poco costo materia prima. Durante la investigación reciente del Doctorado del Dr. Hoex, hemos mostrado que el de alto nivel sin precedente de cargas negativas incorporadas en una capa ultrafina del óxido de aluminio depositada por el plasma ALD puede eliminar casi totalmente electrónico pierde en las superficies de la célula solar. El óxido de Aluminio ha ganado recientemente la atención de la comunidad del photovoltaics como material versátil y compatible que se prevee que facilite varios avances en diseño y tecnología de la célula solar.”

Last Update: 17. January 2012 04:10

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