Nanoelectronics 装置のための高度プロセス、材料および製造業の話の焦点

Published on July 6, 2009 at 7:48 PM

アルバニーの大学の Nanoscale 科学そして工学 (「CNSE」) の大学からの nanoelectronics の認識された学術および技術者は SEMICON の西 2009 年、サンフランシスコの CA. 7 月 13 日から 17 日保持されるべき先導産業の会議および展示会で提示を提供するために選ばれました。

ロバート Geer 先生、学術の出来事のための CNSE の副大統領および主な学術の将校、および Nanoscale 科学の教授、および副大統領リチャード Brilla は、作戦、同盟および借款団のための CNSE の、 Moscone の中心の北ホールで保持されている TechXPOT を位取りする SEMICON の装置の一部として話すことになっています。

「オンチップの改革と資格を与えられる Geer の提示は同等のスケーリングのために相互接続します: 22nm に向こう」、火曜日の間スケジュールされ、マルチコアオンチップアーキテクチャへの転移が急速に 22nm をはるかに越えて同等のスケーリングを維持するために、新しいシグナリングアプローチ処理するてこ入れする、 3D に必要性新しく物質的な導入および後 CMOS スイッチ統合を強調する終りの道路地図の相互接続の範例のための景色をどのように変更したか 12:10 P.m. Geer の 7 月 14 日は記述します。

Brilla は彼が輪郭を描く 11:50 AM に一義的な CNSE の範例がツールの統合を、材料リソース論議し、どのように可能にする、加速された費用有効プロセス開発かの結果 「加速された開発 - 水曜日の延長ムーアの法律」を、 7 月 15 日。 特に、彼は CNSE と国際的な SEMATECH および Atotech を含む全体的な団体パートナーの複数間の共同に、焦点を合わせます。

CNSE の上席副社長およびアラン E. Kaloyeros 経営最高責任者の先生は、 「Brilla が革新的な nanoelectronics の教育の前進の各国指導者として著名な SEMICON の西 2009 の提出者として UAlbany NanoCollege の全体的な評判に下線を引くリチャードおよびロバート Geer の選択、研究開発および商業化言いました。 私達は運転される CNSE の国際的レベルの機能の強調を楽しみにして、助けている一義的な官民のパートナーシップによってサポートされて、私達の産業パートナーは残ります企業のための挑戦の一度にプロダクティブに」。

最も大きい企業の会議および展示会の 1 つは、 SEMICON の西毎年 15 ヶ国上のからの 45,000 人以上の参加者、また集積回路の生れ以来のあらゆる主要な技術の進歩を担当する世界の一流の nanoelectronics の技術の会社を引き付けます。

Last Update: 3. June 2015 09:50

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