Synopsys 宣佈與參考流的星系實施平臺技術支持臺灣積體電路製造公司的 28 毫微米加工技術 10.0

Published on July 22, 2009 at 8:13 PM

Synopsys, Inc. (那斯達克:SNPS),在軟件的一個半導體的世界領導人和 IP 設計,今天宣佈的核實和製造與參考流的星系 (TM) 實施 (nm)平臺技術支持臺灣積體電路製造公司的 28 毫微米加工技術 10.0。 在參考流以為特色的星系技術 10.0 包括全面 28 nm 設計規律技術支持安排,并且途徑,互聯進程塑造和設計製造標準, IEEE 1801-2009 (UPF) - 基於分層結構低功率流技術支持、電源意識設計為測試 (DFT)、電子設計為製造 (eDFM)改進和提前的停止工作功能。

「臺灣積體電路製造公司和 Synopsys 順利地合作提供臺灣積體電路製造公司參考流的 10 生成」,高級主任說 ST Juang,設計在臺灣積體電路製造公司的基礎設施市場營銷的。 「Synopsys 星系技術和我們的 28 毫微米加工技術的組合在參考流 10.0 提供設計員解決 manufacturability 的解決方法,當平衡設計最佳性能和電力消費的時」。

Synopsys 的星系實施平臺為臺灣積體電路製造公司 28 毫微米設計規律以集成電路編譯器安排和途徑,集成電路 Validator 實際核實和星形RCXT (TM) 寄生提取提供技術支持。 作為 Synopsys 的 Eclypse (TM) 低功率解決方法一個關鍵部件,星系平臺包括與 IEEE 的新的分層結構低功率流技術支持 1801,弄亂電壓區技術支持,設計編譯器 DFT 綜合和 TetraMAX 自動測試圖形卡生成的新的電源意識技術 (ATPG)。

「支持臺灣積體電路製造公司 28 nm 設計規律的我們的星系實施平臺的改進的功能更加容易地啟用設計社區對從臺灣積體電路製造公司的最新的加工技術的福利」,在 Synopsys Bijan Kiani,產品銷售、設計和製造產品的副總統說。 「版本參考流 10.0 結合從 Synopsys 的領先業界的 EDA 解決方法和從臺灣積體電路製造公司的科技目前進步水平製造技術提供設計員一個低風險路徑從設計到他們的下一代產品的硅」。

另外的星系技術集成參考流 10.0 為臺灣積體電路製造公司的 eDFM 時間分析主動性提供全面流技術支持。 eDFM 地址潛在的參數性能班次由於在功能厚度、形狀和重點上的製造過程變化。 這些技術包括 Seismos 重點作用分析和描述特性,塑造與臺灣積體電路製造公司的 CMP 模擬程序 (VCMP),星形RCXT 功能縮放比例 VCMP 意識提取、黃金時間的 VCMP 意識時間分析和 PrimeRail VCMP 意識 IR/EM 分析的 PrimeYield CMP。

Last Update: 24. January 2012 22:44

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