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Colaboración demostrará nuevos materiales EUV en Resistencia de Materiales y el Centro de Desarrollo de Albany CNSE NanoTech

Published on August 31, 2009 at 8:13 AM

SEMATECH , un consorcio global de fabricantes de chips, y Shin Etsu Chemical Co., Ltd., uno de los mayores proveedores del mundo de los materiales semiconductores, anunció hoy que Shin-Etsu se ha unido a SEMATECH resistir Materiales y el Centro de Desarrollo (RMDC) en el Colegio de Nanotecnología e (CNSE) Ingeniería Complejo de Albany NanoTech.

Como miembro del programa de Resistencia a la litografía SEMATECH, Shin-Etsu se unirán con los investigadores en SEMATECH desarrollar y demostrar avanzada fotosensible EUV para su uso en el nodo de 22 nm y más allá.

"La asociación con proveedores de resistir como Shin-Etsu acelerará nuestro progreso en la lucha contra los desafíos clave - como la resolución, la línea de ancho de rugosidad, y el colapso de patrón - en el área crítica de la imagen avanzada", dijo Bryan Rice, director de la litografía en SEMATECH . "Nos complace dar la bienvenida a Shin-Etsu de RMDC SEMATECH, donde se unirá a decenas de investigadores representantes de universidades y empresas de todo el mundo se unió en el avance de resistir el proceso de desarrollo."

"La investigación de vanguardia y el desarrollo, necesaria para la comercialización de la tecnología EUVL también se verá fortalecida por la adición de Shin-Etsu," dijo Richard Brilla, presidente de CNSE Vicepresidente de Estrategia, Alianzas y consorcios. "Esta nueva sociedad se basará en las capacidades de clase mundial en la Universidad de Albany NanoCollege en apoyo de las necesidades de tecnología avanzada de nuestros socios globales corporativos y la industria de la nanoelectrónica".

La colaboración se basará en la amplia red de SEMATECH de hardware y experiencia en investigación, la experiencia de semiconductores, y liderazgo en el mercado altamente respetado y en la probada Shin-Etsu, el líder de la industria de materiales semiconductores especiales. RMDC SEMATECH dará acceso a dos herramientas de micro-exposición (MET), ubicado en la Universidad en la Universidad de Albany de Nanotecnología e Ingeniería y la Universidad de California en Berkeley, así como varias herramientas de metrología.

Desde hace varios años SEMATECH ha mantenido una capacidad de exposición de clase mundial para el desarrollo de materiales. El RMDC reúne a los principales resistir y proveedores de materiales y una amplia cartera de resistir a los proyectos de investigación que emplean los investigadores académicos e industriales de todo el mundo. En conjunto, los RMDC proporciona el hardware y la experiencia de investigación para desarrollar procesos de EUV el cumplimiento de los estrictos resolución, la línea de ancho de rugosidad, y las especificaciones de la sensibilidad necesaria para el progreso continuo en la fabricación.

Last Update: 3. October 2011 21:51

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