Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

President og CEO i SEMATECH å Outline Utfordringer og strategier for Mask Industry

Published on September 1, 2009 at 8:18 AM

På den kommende SPIE photomask Technology Symposium SEMATECH konsernsjef Dr. Michael R. Polcari vil kalle for økt industrisamarbeid for å lukke et kritisk hull i masken infrastruktur for euv (ekstrem ultrafiolett) litografi. Polcari vil adressen konferansedeltakere tirsdag, september 15, 2009 kl 08:10 på Monterey Marriott og Monterey Conference Center i Monterey, California.

"Selv om vi erkjenner at det finnes flere teknologier for å møte halvlederindustrien stadig økende litografi etterspørsel, tror vi euv kan være en kostnadseffektiv løsning," sa Polcari. "Masker blir en viktig komponent i litografi kostnader for avansert halvlederproduksjon og en maske infrastruktur må være tilgjengelig for å møte den økende etterspørselen for høy oppløsning, lave eierkostnader litografi."

I sin keynote, med tittelen "Global Samarbeid i Semiconductors og Strategies for the Mask Industri," Polcari vil dele innsikt i:

  • utfordringene den globale halvlederindustrien og samarbeidsvillig tilnærminger blir tatt for å løse dem,
  • hvordan euv kan være kostnadseffektive litografi løsning under 22 nm om temaer som euv maske defekter kan løses, og
  • hvordan et samarbeid strategi for å utvikle nye metrologi verktøy vil gjøre det mulig euv og dra masken bransjen.

Dr. Polcari har fungert som president og CEO i SEMATECH siden 2003, dirigere den globale konsortiet avansert teknologi og produksjon programmer. Tidligere var Polcari visepresident for Procurement Engineering for IBM Global Procurement. Han har en doktorgrad i solid state fysikk fra Stevens Institute of Technology, og har servert på diverse industri og universitet rådgivende boards.

Det 29. årlige SPIE / BACUS photomask Symposium er den fremste verdensomspennende tekniske konferanse og utstilling for photomask industrien. Årets symposium vil gi deltakerne mulighet til å høre den nyeste forskningen på nye og pågående problemer mot photomask bransjen.

Last Update: 5. October 2011 10:51

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit