På den kommende SPIE photomask Technology Symposium SEMATECH konsernsjef Dr. Michael R. Polcari vil kalle for økt industrisamarbeid for å lukke et kritisk hull i masken infrastruktur for euv (ekstrem ultrafiolett) litografi. Polcari vil adressen konferansedeltakere tirsdag, september 15, 2009 kl 08:10 på Monterey Marriott og Monterey Conference Center i Monterey, California.
"Selv om vi erkjenner at det finnes flere teknologier for å møte halvlederindustrien stadig økende litografi etterspørsel, tror vi euv kan være en kostnadseffektiv løsning," sa Polcari. "Masker blir en viktig komponent i litografi kostnader for avansert halvlederproduksjon og en maske infrastruktur må være tilgjengelig for å møte den økende etterspørselen for høy oppløsning, lave eierkostnader litografi."
I sin keynote, med tittelen "Global Samarbeid i Semiconductors og Strategies for the Mask Industri," Polcari vil dele innsikt i:
- utfordringene den globale halvlederindustrien og samarbeidsvillig tilnærminger blir tatt for å løse dem,
- hvordan euv kan være kostnadseffektive litografi løsning under 22 nm om temaer som euv maske defekter kan løses, og
- hvordan et samarbeid strategi for å utvikle nye metrologi verktøy vil gjøre det mulig euv og dra masken bransjen.
Dr. Polcari har fungert som president og CEO i SEMATECH siden 2003, dirigere den globale konsortiet avansert teknologi og produksjon programmer. Tidligere var Polcari visepresident for Procurement Engineering for IBM Global Procurement. Han har en doktorgrad i solid state fysikk fra Stevens Institute of Technology, og har servert på diverse industri og universitet rådgivende boards.
Det 29. årlige SPIE / BACUS photomask Symposium er den fremste verdensomspennende tekniske konferanse og utstilling for photomask industrien. Årets symposium vil gi deltakerne mulighet til å høre den nyeste forskningen på nye og pågående problemer mot photomask bransjen.