SMIC Nimmt Rhythmus-Lösungen an, um Druck und Lithographische Variabilität auf Leistung von Vorauszusagen 65 - und 45 nm-Halbleiter-Auslegungen

Published on October 19, 2009 at 4:18 AM

Cadence Design Systems, Inc. (NASDAQ: CDNS), der Führer in der globalen elektronischen Auslegungsinnovation, heute angekündigt diesem Semiconductor Manufacturing International Corporation („SMIC“; NYSE: SMI und SEHK: 0981.HK) hat Rhythmus angenommen (R) sagen Körperliches Analysegerät Litho und Elektrisches Analysegerät Rhythmus Litho zu genauer die Auswirkung des Druckes und lithographische Variabilität auf der Leistung von 65 - und 45 nmhalbleiterauslegungen voraus. Das Elektrische Analysegerät Rhythmus Litho -- die der Halbleitererste elektrische das DFM-Lösung Industrie in der Produktion bei führenden Halbleiterfirma von 90 nm zu 40 nm -- kombiniert mit Körperlichem Analysegerät Rhythmus Litho, um einen Fluss resultiert zu erstellen, der genau abschließendes Silikon voraussagte.

Vorher konnten das elektrische Verhalten von einzelnen Zellen und die Bibliotheken in einem einzelnen Zusammenhang vor-gekennzeichnet werden, der an einer gegebenen Auslegung durchweg angewendet werden könnte, die auf der gerichteten Verfahrenstechnik basierte. Bei 65 nm und unten, erstellt jede Platzierung einer Zelle sein eigenes Set körperliche und elektrische Variabilitäten im Verhältnis zu seinen benachbarten Zellen oder Umgebungen. Diese „abhängige Variabilität des Zusammenhangs“ taucht als entscheidende Frage auf, die das Chip veranlassen kann auszufallen. Rhythmus Treffen (R) Anlage integriert der Digital-Implementierungs-Anlagen-(EDI) nahtlos das Körperliche Analysegerät Litho und Elektrisches Analysegerät Litho für rigorosen Zusammenhang-abhängigen körperlichen und elektrischen Signoff von Zellen vor voller Chip-Implementierung. Die Flusshebelkraftbaumuster basierte körperliche und elektrische Auslegung, damit Fertigungstechniken (DFM) die Qualität und die Zuverlässigkeit von Standard-Zellen-Bibliotheken, von Kernen des geistigen Eigentums (IP) und von vollem Chip verbessern, um Herstellungsertrag in den vollen Chips zu erhöhen.

„Die Notwendigkeit, zum der körperlichen und elektrischen Variante bei 65 und 45 nm zu adressieren benötigt einen ganzheitlichen Ansatz, dem Anfänge an der Zelle den gesamten Zusammenhang der Auslegung nivellieren und betrachten,“ sagte Maximales Liu, VP der SMIC-Dienstleistung- Im DesignbereichMitte. „Mit dem Rhythmus DFM fließen Sie, könnten wir Zelle und IP-Variabilität analysieren und ihre Leistung im wirklichen Silikon genau formen. Indem sie die Variabilität kennzeichnen und verringern, sind unsere Abnehmer, Abdeckungstreifenbildung zu verringern in der Lage und hochwertigeres Silikon zu produzieren. Die Lösung aktiviert auch fast-lineare Ersteigbarkeit, die ist notwendig für einen Vollchip elektrischen DFM Überprüfungsfluß.“

Rhythmus hat eins der der Auslegungs-Seite DFM Industrie komplettesten der Verhinderung, der Analyse und der Abschlussverfahrene, einschließlich AuslegungSideoptimierungen mit Treffen-Digital-Implementierungs-Anlage entwickelt. Er wird auch für die Variabilitätsformung von 32 - und 28 nmbibliotheken verwendet. „Schnell, ist die genaue Zusammenhang-abhängige Variabilitätsformung von Zellen für Lithographie- und Druckeffekte zur Implementierung von Produktion-angemessenen Auslegungen bei 65 nm Schlüssel und unten,“ sagte Dr. Chi-Klingeln HSU, Senior-Vizepräsident der Forschung und Entwicklung für die Implementierungs-Gruppe am Rhythmus. „Zahlreiche erste Silikonerfolge haben geprüft bereits den Wert von DFM-Analysehilfsmitteln für Großserienhalbleiterauslegungen.“

Last Update: 13. January 2012 15:23

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