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SMIC 采用节奏解决方法预测重点和平版印刷的可变性在性能 65 -,并且 45 nm 半导体设计

Published on October 19, 2009 at 4:18 AM

Cadence Design Systems, Inc. (那斯达克:CDNS),在全球电子设计创新的领导先锋,今天宣布该 Semiconductor Manufacturing International Corporation (“SMIC”; NYSE : SMI 和 SEHK : 0981.HK) 采用节奏 (R) Litho 实际分析程序和节奏 Litho 电子分析程序对更加准确地预测重点的影响和在性能的平版印刷的可变性 65 - 和 45 毫微米半导体设计。 节奏 Litho 电子分析程序 -- 在生产的半导体行业的第一个电子 DFM 解决方法在从 90 毫微米的主导的半导体公司到 40 毫微米 -- 与节奏 Litho 实际分析程序结合创建准确地预测最终硅的流发生。

以前,各自的细胞电子工作情况和图书馆可能在可能一贯地适用于在这种被瞄准的加工技术基础上的一个特定设计的一个唯一环境前被分析。 在 65 毫微米以下,细胞的每个位置创建其自己的套实际和电子可变性相对其相邻的细胞或周围。 此 “环境从属的可变性”涌现作为关键问题,可能造成这个筹码发生故障。 节奏遭遇 (R) 数字式实施系统 (EDI) 系统无缝在充分的筹码实施之前集成 Litho 实际分析程序和 Litho 电子分析程序细胞严谨环境从属的实际和电子停止广播的。 制造技术的流杠杆作用设计基于实际和电子 (DFM)设计能改进标准单元程序库、知识产权核心和充分的筹码的 (IP)质量和可靠性增加在充分的筹码的制造产量。

“解决实际和电子差异的必要性在 65 和 45 毫微米要求在这个细胞的起始时间成水平并且考虑这个设计的整个环境的一个整体途径”,说最大刘, SMIC 设计服务中心 VP。 “与节奏 DFM 请流,我们可能分析细胞和 IP 可变性和准确地塑造他们的在实际硅的性能。 通过分析和减少可变性,我们的客户能减少捍卫条带和生产更加优质的硅。 这个解决方法也启用近线性可缩放性,为全筹码电子 DFM 核实流是必要的”。

节奏开发了其中一个行业的最完全的设计端 DFM 预防、分析和停止工作方法,包括设计侧优化与遭遇数字式实施系统。 它为可变性塑造也使用 32 个 - 和 28 毫微米图书馆。 “快速,准确环境从属可变性塑造石版印刷和重点作用的细胞是关键的对实施生产值得的设计在 65 毫微米以下”,资深副总裁说博士池氏砰花语,研究与开发的实施组的在节奏。 “许多第一硅成功已经证明 DFM 为大容积半导体设计的分析工具的值”。

Last Update: 13. January 2012 10:27

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