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Equipo del CVD Para Diseñar y Para Construir el Sistema De Encargo del Chisporroteo del Magnetrón para el Laboratorio Nacional de Brookhaven

Published on October 27, 2009 at 9:12 AM

CVD Equipment Corporation (CVD, NASDAQ: CVV), anunciado hoy que el Laboratorio Nacional de Brookhaven ha contratado con la Compañía para diseñar y para construir un Sistema de encargo del Chisporroteo del Magnetrón que utilizará el nuevo proyecto Nacional de la Fuente De Luz II del Sincrotrón (NSLS-II) que es construido en el Laboratorio de Brookhaven en Upton, Long Island, Nueva York. El sistema depositará capas críticas para producir el lente de múltiples capas necesario para la radiografía que se centra en NSLS-II. El sistema comprende veintitrés pies largos, el compartimiento de Vacío Ultra (UHV) Alto que contiene nueve Pistolas del Chisporroteo del Magnetrón y un mecanismo de mando del movimiento lineal de la alta precisión para activar la deposición de una pila multi de la capa de la película hasta el 100µm grueso. Las características de sistema automatizadas permiten al laboratorio lograr el proceso largo de dos semanas de la capa (decenas de miles de capas chisporroteadas) con la precisión requerida, la velocidad constante y los resultados repetibles.

Michael J. Gray, Vicepresidente de Ventas y del Márketing para CVD Equipment Corporation, cree que era las capacidades amplias del CVD que llevan a esta recompensa. “Estaba sin obstrucción que el Laboratorio de Brookhaven buscaba una plataforma que activará el envolvente de la exactitud y de la precisión para el movimiento del en-vacío,” dijo a Sr. Gray. “Las capacidades multidisciplinarias únicas del diseño del CVD y la integración vertical de la fabricación dieron a investigadores de NSLS-II la confianza que podemos conseguir el trabajo hecho. Creemos verdad que no hay otra compañía que podría manejar tal complejo en proyecto del movimiento del vacío.”

“Este proyecto permite que mostremos otro rango en nuestras capacidades de base,” dijo Leonard Rosenbaum, el Presidente del CVD y al CEO. “Este rango de la capacidad es necesitado por el número creciente de los investigadores que están activando los límites de fabricación del nano-material y relacionado aumente proporcionalmente las soluciones del sistema.”

Ray Conley, Investigador del Terminal De Componente de la Óptica en NSLS-II, dijo que el “trabajo está progresando constantemente para activar el límite para la radiografía que enfoca a escalas más pequeñas de la longitud. Aserrábamos al hilo la larga historia de ese CVD de diseñar y de construir los sistemas avanzados, determinado los sistemas que combinan vacío, el movimiento, la deposición de la fino-película y soluciones de mando de proceso avanzado, éramos el asiento correcto. Una Vez Que entendían nuestras necesidades especiales, el CVD dirige nos presentó con un diseño de sistema de encargo. Contamos con que con la ayuda del CVD poder construir la aduana que enfoca los lentes difrangentes de múltiples capas de la radiografía que enfocan tallas de mancha de la nanómetro-escala de las radiografías hacia abajo.”

Last Update: 13. January 2012 12:57

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