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ASML Anuncia Proyecto de Desarrollo Conjunto con STMicroelectronics Para Acelerar 28 nanómetro y el Revelado del Nodo de 22 nanómetro

Published on December 3, 2009 at 2:11 AM

ASML (NASDAQ: ASML) (Amsterdam: ASML), junto con sus Tecnologías subsidiarias de Brión, anunció hoy un proyecto de desarrollo conjunto amplio-scoped con STMicroelectronics (ST) para acelerar el despliegue del nodo de 28 nanómetro y el revelado del nodo de 22 nanómetro.

Este proyecto de desarrollo conjunto, código-nombrado el MACIZO (Optimización de la impresión del Silicio con mando de la Litografía y Diseño Integrado), intenta optimizar el proceso que modela del diseño a la fabricación, ampliar las herramientas de la caracterización y los métodos para desarrollar las nuevas técnicas de la corrección/de la remuneración para reducir variabilidad y explorar las soluciones de la litografía del descubrimiento para fabricar virutas complejas en los nodos de sub-30-nm.

El ST funcionará con la co-optimización de la fuente-máscara de Tachyon™ SMO con las fuentes avance de la iluminación de ASML, incluyendo el iluminador programable recientemente anunciado de FlexRay™. Junto Tachyon SMO y FlexRay proporcionarán a ciclos de revelado más rápidos del ST en el R&D y a una rampa más rápida a la producción. Hasta ahora, el ST ha utilizado con éxito la corrección óptica de la proximidad de Tachyon OPC+ de Brión y el manufacturability de la litografía de LMC llega su producción de 45 nanómetro.

“Este proyecto de desarrollo conjunto combinado con la habitación integrada de ASML de los productos de la litografía, incluyendo las soluciones de cómputo de Brión y la última generación de analizador de TWINSCAN NXT provee del ST de cómputo y las tecnologías de la litografía del fulminante que nos permitirán desarrollar soluciones óptimas de la fabricación en 28 nanómetro y abajo,” dijo a Joël Hartmann, Director del Revelado de Tecnología del Silicio para STMicroelectronics, en Crolles, Francia. “Además este esfuerzo de ST-ASML es un refuerzo del atado cooperativo del R&D de Crolles, que recolecta a socios alrededor del revelado y de la activação de SoC de baja potencia (Sistema en Viruta) y de tecnologías específicas a la aplicación de valor añadido. Éste es un ejemplo perfecto de un proyecto desarrollado en el marco del programa Nano2012. ” (1)

“Como cliente de largo tiempo de ASML, ST está un socio excelente con quien explorar y desarrollar los métodos holísticos de la litografía para crear los semiconductores avanzados,” dijo a Bert Koek, vicepresidente, grupo de productos de las aplicaciones en ASML.

Last Update: 13. January 2012 09:24

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