Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

ASML Объявляет Совместный Проект Развития с STMicroelectronics Ускорить Ход 28 nm и Развития Узла 22 nm

Published on December 3, 2009 at 2:11 AM

ASML (NASDAQ: ASML) (Амстердам: ASML), вместе с своими дополнитеельными Технологиями Brion, сегодня объявило обширный-scoped совместный проект развития с STMicroelectronics (ST) ускорить ход раскрытия узла 28 nm и развития узла 22 nm.

Этот совместный Код-названный проект развития, ТВЕРДЫМ ТЕЛОМ (Оптимизированием печатания Кремния с управлением Литографированием и Интегрированной Конструкцией), изыскивает оптимизировать делая по образцу процесс от конструкции к изготовлять, расширить инструменты характеризации и методы для того чтобы начать новые методы коррекции/компенсации для уменьшения изменчивости и исследовать разрешения литографированием прорыва для изготовлять сложные обломоки на узлах sub-30-nm.

ST будет работать с co-оптимизированием источник-маски Tachyon™ SMO в тандеме с источниками освещения ASML выдвинутыми, включая недавно объявленный иллюминатор FlexRay™ programmable. Совместно Tachyon SMO и FlexRay снабдят этапы разработки ST более быстрые в R&D и более быстрый пандус продукция. До теперь, ST успешно использовал коррекцию близости Tachyon OPC+ Brion оптически и manufacturability литографированием LMC проверяет внутри свою продукцию 45 nm.

«Этот совместный проект развития совмещенный с сюитой ASML интегрированной продуктов литографированием, включая разрешения Brion вычислительные и самое последнее поколение блока развертки TWINSCAN NXT обеспечивает ST с вычислительным и технологии литографированием вафли которые позволят мы начать оптимальные разрешения изготавливания на 28 nm и ниже,» сказал Joël Hartmann, Директор Развития Технологии Кремния для STMicroelectronics, на Crolles, Франция. «Furthermore это усилие ST-ASML подкрепление группы R&D Crolles кооперативной, которая собирает соучастников вокруг развития и позволять малоэнергичного SoC (Системы на Обломоке) и повышенно-ценных специфических для приложения технологий. Это совершенный пример проекта начатого в пределах структуры программы Nano2012. » (1)

«Как долгосрочный клиент ASML, ST превосходный соучастник с которым исследовать и начать целостные методы литографированием для создавать предварительные полупроводники,» сказал Bert Koek, старший вице-президент, группу продукции применений на ASML.

Last Update: 13. January 2012 12:13

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit