Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

可靠和价格合理地设计微设备和传感器在金刚石外面

Published on February 3, 2010 at 6:09 PM

先进的金刚石技术 (ADT)宽广地做可用启用工程师和产品开发员对可靠和价格合理地设计微设备和传感器在金刚石外面的铭刻处方。

基于在真空科学 & 技术 B 被评论的日记帐的 11月/12月 2009 问题发布的研究 (JVST B),铭刻处方可以从 ADT 的网站的下载在 http://www.thindiamond.com。 使用标准进程可用在多数铸造厂,此干燥铭刻处方使设计员发展最尖端的金刚石微设备和传感器,当消灭复杂传统上与金刚石相关时。

“使金刚石可用,可访问和价格合理的这个进程是完全的。 我们发布了此处方,因此金刚石可以合并到使用用于的同样设备和材料的流程里处理硅。 我们消灭了风险和奥秘如何做金刚石设备和我们请希望刺激设计员创造性和机巧做金刚石设备,不用安排他们担心处理步骤”,尼尔 Kane 总统,说 ADT 的。

锋利的金刚石技巧的条款、 “极小制作由 E 射线石版印刷的和引人地耦合的等离子易反应的离子蚀刻”,描述被开发的铭刻处方,当创建锋利的金刚石时为基本强制显微学探测 (AFM)打翻。 使用 ADT 的 UNCD® 薄酥饼,干燥铭刻处方被优选达到 650 个 nm/min 的一种最大铭刻费率。 达到为开发精美纳诺结构是可适用的更加缓慢的铭刻费率的参数也概述。 创建和仿造的困难屏蔽,一块 350 块毫微米等离子浓厚改进的化工蒸气存款 SiOx 层处理步骤,也详述。

“我们有使用我们的 UNCD 薄酥饼的客户使金刚石产品一样不同,象 AFM 探查,为相控阵雷达,生理传感器切换检测在水、 LED 照明设备和硼被掺杂的金刚石电极的大肠埃希氏菌水净化的。 一份简单,优化铭刻处方使采用金刚石非常直接”,博士约翰卡来尔说 ADT 的首席技术干事。 “全部的生成的第 2 和 3D 金刚石结构现在是可以想象的例如高性能 RF MEMS 设备,并且过载信号器”,科学家和 JVST B 条款的主要作者, Nicolaie Moldovan 博士说 ADT 的 MEMS 线索。

一个优化干燥铭刻功能的发展是 ADT 的持续的研究的一部分提前其 2009 个 R&D100 的得奖的 NaDiaProbes®,世界的第一全金刚石 AFM 探测,被创建使用 UNCD 薄酥饼作为一种原材料。 NaDiaProbes 不是在悬臂或部分挂接的金刚石金刚石上漆的探测; 相当整个悬臂式和技巧集合由 UNCD, nanocrystalline 金刚石的一份薄膜表单做成。

ADT 感恩地承认其与是 JVST B 条款的共同执笔者的 Argonne 国家实验室 (Argonne) 的继续的协作。 NaDiaProbes 开发了与从国家科学基金会的 SBIR/STTR 程序的授予。

形成把 ultrananocrystalline 金刚石技术商业化被开发在 Argonne, ADT 是独有的证书持有人对金刚石专利其投资组合。 ADT 是先驱世界经济论坛 2007年技术,一个 2008年 EuroAsia 集成电路证书的接收人在材料的启用从 EuroAsia 半导体杂志的类别,机械密封表面的一个 2008 R&D 100 证书赢利地区流动泵的,并且 2009 R&D 100 授予 NaDiaProbes 的赢利地区。

Last Update: 13. January 2012 02:43

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit