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Posted in | Nanofabrication

El Nuevo Sistema de GEMStar ALD de Arradiance Deposita Uniformemente las Películas de Nanolaminate

Published on June 22, 2010 at 2:06 AM

Arradiance anunció hoy su nuevo sistema Atómico potente de la Deposición de la Capa de GEMStar™ (ALD) Benchtop cronometrado con el comienzo de la Reunión Atómica anual de la Deposición de la Capa de la Sociedad Americana del Vacío en Seul, Corea en donde se ha invitado al Dr. Felipe de Rouffignac, Científico Material Principal de Arradiance, que hable en el tema, “ALD de SnO2 como el componente activo de un ‐ Plástico del Microcanal Basado Dirige el Detector de Neutrón Rápido.”

El GEMStar, para el cual Arradiance ha recibido ya pedidos múltiples de centros de investigación de cabeza, se puede utilizar para depositar capas delgadas del material en virtualmente cualquier substrato y fue diseñado con la alta relación de aspecto más desafiadora y con aplicaciones de la deposición del poro del ‐ en mente.

GEMStar Benchtop ALD

Los paquetes de sistema de GEMStar la capacidad para tramitar 6" fulminantes o macizo hasta 1" profundamente junto con el sitio para hasta 8 precursores en un 31" minúsculo x 24" x 11" conjunto sin sacrificar manteniabilidad o calidad de la película. El sistema también ofrece un acceso para opcional en metrología del situ del ‐, una característica opcional de la ayuda del nitrógeno, la capacidad de precursores heated y una válvula interna del MFC. El software robusto y convivial de Arradiance de GEMFlow™ y cinco pre recetas calificadas ‐ vienen patrón.

“De nuestro trabajo con las estructuras sensibles, altas del microcanal de la relación de aspecto, éramos agudo enterados de la necesidad de un sistema en el cual podríamos repeatably y depositar uniformemente el nanolaminate complejo filma eficientemente”, explicamos al Dr. de Rouffignac. “También realizamos del discurso a los líderes del sector que la talla de sistema, el precio, la adaptabilidad en dimensiones del fulminante y la disponibilidad del precursor son también dominantes a las necesidades del mercado del R&D.”

El Director de Operaciones de Arradiance, David Beaulieu, agrega, “aprendimos de nuestras propias aplicaciones que diseñan para la uniformidad y el mando paramétrico es los claves al éxito de desarrollo. Nuestro reactor único, múltiple heated del precursor y ‐ multi canalizan el sistema de envío del gas, junto con mandos de calefacción individuales del precursor dénos la potencia y la adaptabilidad de manejar cualquier película compleja.”

Fuente: http://www.arradiance.com/

Last Update: 12. January 2012 01:57

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