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Posted in | Nanoanalysis | Nanobusiness

Eulitha は分光学アプリケーションのための深くエッチングされた格子をもたらします

Published on August 13, 2010 at 2:28 AM

伝達回折格子は EUV の光源の性格描写のような多くの研究開発のプロジェクトに必要となりますまたは EUV の分光学の実験は及びます。

このスペクトル領域 (大体 5-20 nm) のすべての材料による高い吸収のために格子は薄い膜でなされなければなり、スリットは僅かな吸収があるべきです。 EUV 伝達格子 Eulitha の製造の長年の経験を今分光学アプリケーションのための深くエッチングされた格子を提供しています持っていることは。

窒化珪素の膜にエッチングされる 1mm のピリオドの格子の SEM の画像。 この格子の横断面は差込みで示されています。

格子は顧客の指定、例えばサイズ、線幅および耳障りなピッチに従って設計されています。 膜の機械安定性そして耐久性はスリットおよび横木の構造に unetched 残っている窒化珪素の非常に薄い (Ca. 20nm) 層保障されます。 非常に壊れやすい膜の処理の私達の成長したプロセスはそして専門知識は私達が現実的な価格で良質の格子を提供することを可能にします。

Eulitha は高度の石版印刷の技術を使用して良質の nanostructures の生産の開拓者そしてリーダーです。 私達は副20 nm 領域に伸びる解像度の顧客用のおよび標準化された nanostructures を提供します。

定期的な nanostructures のための Eulitha の製造は記録破りの極度な紫外干渉の石版印刷 EUV-IL の技術に基づいています。 方法は約 13 nm の波長でライトを使用します。 Eulitha は EUV-IL によって 1 次元線形格子および二次元の点のアレイまたは格子製造します

ソース: Eulitha

Last Update: 12. January 2012 05:25

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