Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Save 20% On a Jenway 7315 Spectrophotometer from Bibby Scientific
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
Posted in | Nanoanalysis | Nanobusiness

Eulitha 引入深深分光学应用的被铭刻的滤栅

Published on August 13, 2010 at 2:28 AM

传输衍射光栅在许多研究与开发项目需要例如 EUV 光源的描述特性或在 EUV 的分光学实验排列。

由于由所有材料的高吸收在此光谱范围 (大致 5-20 毫微米) 在稀薄的膜必须做滤栅,并且裂缝应该有微不足道的吸收。 有长年的经验在 EUV 传输滤栅 Eulitha 的制造现在提供深深分光学应用的被铭刻的滤栅。

1mm 期间滤栅的 SEM 图象被铭刻到氮化硅膜。 此滤栅的横断面在插页显示。

滤栅根据客户说明,即范围、行宽和刺耳间距被设计。 膜的机械稳定性和耐久性由在裂缝和标志横线结构保证的 unetched 氮化硅一块非常稀薄的 (Ca. 20nm) 层。 我们的成熟进程和专门技术在处理上非常脆弱的膜使我们提供优质滤栅以价格合理的价格。

使用先进的石版印刷技术, Eulitha 是一位先驱和领导先锋在优质 nanostructures 的生产。 我们提供与延伸下来对子20 nm 区域的解决方法的定制和标准化的 nanostructures。

定期 nanostructures 的 Eulitha 的制造在其破纪录的极其紫外干涉石版印刷 EUV-IL 技术基础上。 这个方法使用光在波长大约 13 毫微米。 Eulitha 由 EUV-IL 制造一维线性滤栅和二维小点列阵或者网格

来源: Eulitha

Last Update: 12. January 2012 05:14

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit