Site Sponsors
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

De Levering van Eerst BEWIJST Systeem Photomask die 193 van de NM- Optica Kenmerkt

Published on August 13, 2010 at 3:56 AM

Carl Zeiss meldt de levering van het eerste Systeem van de Metrologie van de Registratie PROVE™ en van de Bekleding voor photomasks aan NuFlare Technologie, de wereld belangrijke leverancier van e-straal gebaseerde maskwriters. Het is de aftrap voor een reeks leveringen in de aanstaande maanden.

Na drie van de ontwikkelingsjaar tijd ging het eerste systeem PROVE™ met succes de fabrieksgoedkeuring over en werd verscheept aan NuFlare/Japan. PROVE™ wordt ontworpen om beeldplaatsing en kritieke afmeting op photomasks met sub-nanometerherhaalbaarheid en nauwkeurigheid te meten. Het pas ontwikkelde systeem onderscheidt door zijn 193 NMoptica met superieure resolutie. „Wij zijn pleased om het eerste de registratiehulpmiddel van Carl Zeiss te ontvangen. De uitstekende resolutie en de ongekende metingsprecisie van PROVE™ zijn onvermijdelijk om onze recentste generatie e-straal maskerschrijvers te ontwikkelen en te optimaliseren en laten ons toe om ons eigen hulpmiddel te versnellen roadmap, „verklaart Fumiaki Shigemitsu, Directeur van Technologie NuFlare.

Voor Carl Zeiss voltooit het nieuwe registratiesysteem volkomen de portefeuille van van de van het maskermetrologie, overzicht en reparatie hulpmiddelen. De „eerste levering van een systeem PROVE™ is een belangrijke mijlpaal in het project. Met NuFlare als eerste klant kunnen wij vestigen dicht tussen de recentste de metings en de e-straal van de generatieregistratie maskerschrijvers onderling verbindt. De makers en het wafeltje van het Masker zullen fabs beduidend van de resulterende maskers met lagere registratiefouten profiteren,“ verklaart Dr. Oliver Kienzle, Leidende Directeur van de afdeling van de Systemen van de Metrologie van de Halfgeleider van Carl Zeiss'.

Het systeem

De Zeer Belangrijke component van PROVE™ is de beperkte diffractie, de optica die van de hoge resolutieweergave bij 193 NM werkt - beantwoordend aan bij-golflengtemetrologie voor de meerderheid van stroom en toekomst photomask toepassingen. Het verstrekt flexibele verlichting voor maximumcontrastweergave en laat de plaatsingsanalyse van het „in-matrijzen“ patroon van productiepatroon toe.

Het open concept samen met het gebruik van 193 NMgolflengte laat een hoger NA voor pellicle-vrije toepassingen, met inbegrip van extreme ultraviolette (EUV) maskers toe.

Bron: http://www.smt.zeiss.com/

Last Update: 12. January 2012 05:16

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit