首先證明光罩系統的交付具有193納米光學

Published on August 13, 2010 at 3:56 AM

卡爾蔡司報告首次交付證明™光掩膜NuFlare技術的世界領先的電子束基於 maskwriters供應商登記和覆蓋測量系統。這是一系列在未來幾個月內交付的序幕。

經過三年的開發時間,首先證明™系統順利通過出廠驗收,被運到NuFlare /日本。證明™是用來衡量圖像位置和亞納米級的重複性和準確性的光掩膜關鍵尺寸。新開發的系統,通過其卓越的分辨率193納米光學的區別。 “我們很高興收到第一卡爾蔡司註冊工具。出色的分辨率和證明了前所未有的測量精度™是不可避免的發展和優化我們最新一代的電子束掩模作家,使我們能夠加快我們自己的工具藍圖的國家,“文昭重光,NuFlare技術總監。

卡爾蔡司新的註冊制度,完美地完成面膜計量,審查和維修工具的組合。 “一個被證明™系統的第一架飛機在該項目的重要里程碑。作為第一個客戶 NuFlare,我們可以建立一個最新一代的註冊測量和電子束面具作家之間的密切互聯。面膜製造商和晶圓廠,將顯著受益於降低登記錯誤造成的口罩,“博士解釋說,卡爾蔡司”半導體計量系統部總經理奧利弗 KIENZLE。

該系統

證明的關鍵組件™是衍射極限的高分辨率成像光學在193 nm - 對應於波長為廣大的當前和期貨光罩應用計量。它提供了最大對比度成像靈活的照明,使生產模式“在死”安置模式分析。

使用波長為 193納米的開放觀念,使一個更高的NA無薄膜的應用,包括超紫外線(EUV)口罩。

來源: http://www.smt.zeiss.com/

Last Update: 4. October 2011 20:40

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit