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从应用的材料的新的 Eterna FCVD 系统 20nm 逻辑芯片的

Published on August 25, 2010 at 2:16 AM

Applied Materials, Inc. 今天宣布了其突破被应用的 Producer® Eterna™ FCVD™ (易流动的 CVD1) 系统,第一个和影片仅证言技术能够电子查出密集充满晶体管 20nm 和在内存和与优质电介质影片的逻辑芯片设计下。

这些晶体管之间的空白比 30:1 - 五个时间高于当前需求 - 和高复杂配置文件可能有更多的长宽比。 Eterna FCVD 系统的唯一进程从新完全地填补这些空白,传送一部密集,碳自由的电介质影片在至一半空转在的费用要求更多设备和许多另外的处理步骤的证言方法 -。

应用的材料引入其突破 Eterna FCVD 系统,仅第一个和技术能够存款在密集充满晶体管之间的一部优质电介质影片在 20nm 和在内存和逻辑芯片下。

“需要装载在先进的芯片设计的更小和深层结构创建现有的证言技术的一个实际路障。 应用今天打破了此障碍与其新的 Eterna FCVD 系统的引进 - 提供可能启用穆尔的法律持续的进展的制造混乱的技术”,总经理说比尔 McClintock,副总统和应用的 DSM/CMP2 营业单位。 “通过 Eterna FCVD 系统,被应用继续其在空白装载技术,提供一个唯一,简化的和有效解决方法的十多年的领导为客户接受多个新的筹码生成的挑战”。

应用的所有权 Eterna FCVD 进程传送自由流到实际上提供底层的任何结构形状里,无效自由的装载的一部象液体的影片。 Eterna FCVD 系统在微量、闪光和逻辑应用的六个客户地点被安装,它是集成在应用的基准生产者平台。

来源: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 12. January 2012 20:37

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