Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

AMS-Szenenbild-Fluss-Entwicklungs-Satz des Freien Zugangs 28nm der GLOBALFOUNDRIES-Schaukasten-Industrie Erster

Published on September 1, 2010 at 3:24 AM

Bei der heutigen Globalen Technologie-Eröffnungskonferenz stellte GLOBALFOUNDRIES Fluss-Entwicklungssatz der Industrie des ersten des freien Zugangs 28nm (AMS) Entsprechungs-/Zeichenszenenbilds zur Schau. Die Firma macht den Fluss zugänglich für Abnehmer als Plattform, um nach nachgewiesenen Gießereiverfahrenen aufzubauen und erfolgreiche Auslegung zu aktivieren. GLOBALFOUNDRIES teamed mit Rhythmus-Konstruktionssystemen, um diesen AMS-Szenenbildfluß zu entbinden.

. „Zusammenarbeit und Offenheit sind nie zum Aktivieren der Innovation an den Knotenpunkten der neuen Technologie wesentlicher gewesen,“ sagte Richard Trihy, Direktor des Auslegungsverfahrens an GLOBALFOUNDRIES. „Wir arbeiten nah mit unseren Ökosystempartnern, um optimierte Auslegungslösungen zu entbinden. Abnehmer können auf der führenden Flussplattform des Szenenbilds aufbauen 28nm, die wir uns mit Rhythmus entwickelt haben, um ihre Auslegungen und Produktangebote zu unterscheiden.“

Das AMS fließen wird konstruiert, die erweiterten Funktionen GLOBALFOUNDRIES' 28nm-Tor-der Ersten Hoch--K MetallTortechnologie (HKMG) hervorzuheben. Der Fluss umfaßt Silikon-gesteuerte Korrekturlinien und Empfehlungen für besseres manufacturability. Abnehmer haben Zugriff zu IP, zu den Bibliotheken, zu den Bezugssätzen und zur Gießereinebenbürgschaft, die sie die Auslegung neu erstellen und fließen lassen, um ihre einzelnen Auslegungsbedingungen zu treffen. GLOBALFOUNDRIES auch ist das erste in der Industrie, zum eines Flusses mit DRC+, Silikon-validierte Lösung GLOBALFOUNDRIES zu unterstützen', die über Standardausführung Regel hinausgeht, die Überprüft (DRC) und verwendet das zweidimensionale Form-basierte Muster-Übereinstimmen, zum einer 100fachen Drehzahlverbesserung zu aktivieren, wenn es komplexe Herstellungspunkte kennzeichnet, ohne Genauigkeit zu opfern.

GLOBALFOUNDRIES hat mit Rhythmus verbunden, um die bedeutenden Elemente des AMS-Szenenbildflusses in Q3, 2010 zu entbinden, wenn alle Flussschritte durch das GLOBALFOUNDRIES unterstützt sind, PDK. Der Bezugsfluß enthält PCells, das kritische erweiterte Funktionen innerhalb des Rhythmus-Virtuosen kundenspezifisch anfertigen Hilfsmittel aktivieren. Das komplette Produktionsebene AMS fließen wird erwartet, Abnehmern in Q4 2010 freigegeben zu werden, wenn die Silikonbestätigung für frühes 2011 eingeplant ist.

„Rhythmus fährt fort, der Ökosystempartner der Wahl für aggressive Entwicklungsprojekte zu sein, die eine sehr fühlbare und positive Produktivitätsauswirkung für Firmen arbeitend an hoch entwickelten Knotenpunkten haben,“ sagte David Desharnais, ProduktFührungsgruppendirektor am Rhythmus. „Unsere Zusammenarbeit mit GLOBALFOUNDRIES auf diesem voll-integrierten 28nm, AMS-Produktionsablauf des freien Zugangs versieht die Industrie mit einem deterministischen Pfad zu Silikon-Realisierung, eins der grundlegenden Schlüsselbauteile der Vision EDA360.“

Der Fluss gibt analoge Blockbauweise- und Zeichenauslegung um und demonstriert gemischte analoge und digitale Auslegung mit GLOBALFOUNDRIES PDKs und Partnerstandard-zellen-Bibliotheken. Alle Aspekte der Auslegung werden im Bezugsfluß einschließlich die Leitung von parasitären Interessen, von schneller Schaltplanerstausführung, von analogen von Lay-outkorrekturlinien und -wegewahl, von Simulation (z.B., Wahl von Ecken, Monte Carlo), von Induktorsynthese, von Metallfülle und VON VON EM-/IRanalyse umfaßt.

Der Auslegungsfluß wird auch mit whitepapers und Nebenbürgschaft auf Common-Herausforderungen und GLOBALFOUNDRIES-empfohlenen Lösungen vergrößert. Darüber hinaus enthält der Fluss auf höchster Ebene körperliche Abschlussschritte für die Herstellung unter Verwendung Anforderungen GLOBALFOUNDRIES 28nm für EAW, Lithographiesimulation und CMP.

Last Update: 12. January 2012 20:05

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit