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GLOBALFOUNDRIES vitrinas industria de la primera de acceso abierto la producción de 28nm AMS diseño de flujo kit de desarrollo

Published on September 1, 2010 at 3:24 AM

En la conferencia inaugural de tecnología global de hoy, GLOBALFOUNDRIES mostró la industria de la primera de acceso libre de 28nm analógico / Señal Mixta (AMS) el diseño de producción de flujo de kit de desarrollo. La compañía está haciendo el flujo disponible para los clientes como una plataforma para construir sobre metodologías probadas de fundición y permitir el éxito del diseño. GLOBALFOUNDRIES se ha asociado con Cadence Design Systems para ofrecer esta producción AMS caudal de diseño.

. "La colaboración y la apertura nunca han sido tan esencial para permitir la innovación en los nodos de la tecnología de avanzada", dijo Richard Trihy, director de la metodología de diseño de GLOBALFOUNDRIES. "Estamos trabajando estrechamente con nuestros socios del ecosistema para ofrecer soluciones de optimización de diseño. Los clientes pueden aprovechar la plataforma de vanguardia flujo de 28nm de diseño de producción que hemos desarrollado con la cadencia de diferenciar sus diseños y productos. "

El flujo de AMS está diseñado para enfatizar las características avanzadas de GLOBALFOUNDRIES 'Puerta de 28nm de Primero de Bachillerato-k metal gate (HKMG) la tecnología. El flujo de silicio incluye impulsada por las directrices y recomendaciones para mejorar la capacidad de fabricación. Los clientes tendrán acceso a la propiedad intelectual, las bibliotecas de los kits de referencia, y la garantía de la fundición, que les permita volver a crear el diseño y el flujo de cumplir con sus especificaciones de diseño individual. GLOBALFOUNDRIES también será la primera en la industria para soportar un flujo de República Democrática del Congo +, GLOBALFOUNDRIES silicio-validado solución que va más allá de control estándar Normas de Diseño (DRC) y los usos forma bidimensional basado en reconocimiento de patrones para permitir una velocidad de 100 veces la mejora en la identificación de problemas complejos de fabricación sin sacrificar la precisión.

GLOBALFOUNDRIES se ha unido a la cadencia para ofrecer los elementos principales del flujo de diseño de AMS de producción en la Q3 de 2010, con todos los pasos del flujo apoyado por el PDK de GLOBALFOUNDRIES. El flujo de referencia contiene PCells que permiten a los críticos dentro de las funciones avanzadas herramientas de cadencia Virtuoso de diseño personalizado. El total de producción a nivel de flujo de AMS se espera que sea entregado a los clientes en el Q4 de 2010, con la validación de silicio prevista para principios de 2011.

"Cadence sigue siendo el socio de elección del ecosistema para los proyectos de desarrollo agresivo que tienen un impacto sobre la productividad muy tangibles y positivos para las empresas que trabajan en nodos avanzados," dijo David Desharnais, director de gestión de producto de grupo en la cadencia. "Nuestra colaboración con GLOBALFOUNDRIES en este 28nm totalmente integrado, de acceso libre flujo de la producción AMS proporciona a la industria con una ruta determinista a la Realización de silicio, uno de los componentes clave fundamental de la visión EDA360".

El flujo abarca el diseño de bloques analógicos y de señal mixta de diseño, lo que demuestra analógica mixta y diseño digital con PDKs GLOBALFOUNDRIES y bibliotecas asociadas nivel celular. Todos los aspectos del diseño están cubiertos en el flujo de referencia, incluyendo la gestión de problemas parasitarios, prototipado rápido circuito de diseño, las directrices de diseño analógico y el enrutamiento, la simulación (por ejemplo, la elección de las esquinas, Monte Carlo), la síntesis de inductor, el metal de relleno y análisis de EM / IR.

El caudal de diseño es también aumentada con notas del producto y las garantías sobre los retos comunes y GLOBALFOUNDRIES, las soluciones recomendadas. Además, el flujo de primer nivel incorpora medidas físicas visto bueno para la fabricación de 28nm de GLOBALFOUNDRIES con los requisitos para la República Democrática del Congo, la simulación de la litografía y la CMP.

Last Update: 6. October 2011 03:55

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