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22nm 石版印刷的應用的材料生成光掩膜銘刻系統

Published on September 27, 2010 at 10:13 PM

應用的材料今天發行了其新的應用的 Centura 四 X 提前的調制盤銘刻系統 - 唯一的系統能够銘刻為在 22nm 的以遠客戶的最富挑戰性的設備層需要的光掩膜和。

擴展應用的工業標準四 III 平臺的功能,四 X 衝破在所有功能大小間的 (CDU) 2nm 重要維數均一障礙 - 提供可能使屏蔽製造商超出他們的所有設備類型的客戶的最嚴格的模式對說明需求的重要屏蔽準確性。

應用的材料的新的 Centura 四 X 屏蔽銘刻是唯一的系統能够銘刻必要的光掩膜仿造在 22nm 的以遠半導體製造商的最重要的設備層和。 (照片: 企業電匯)

「下一代石版印刷技術在這個模式的準確性是關鍵的屏蔽安置極大的需求」,說 Ajay Kumar,副總統和總經理應用的屏蔽和 TSV1 銘刻產品部。 「仅四 X 系統提供必要的技術達到此準確性,使芯片製造商優選他們的最高的執行的內存和邏輯芯片的石版印刷加工能力。 此科技目前進步水平系統,在 22nm 生產已經合格了在一個主導的屏蔽界面,對提供光掩膜客戶表示我們持續的承諾以國際水平的銘刻技術」。

四 X 系統的均一性能通過提供高度在所有功能大小間的統一,線性銘刻 (SMO)和模式密度唯一地啟用過分要求的二重仿造和來源屏蔽優化技術的改進的石版印刷解決方法,當維護 virtually-zero defectivity 時。 四 X 系統使用各種各樣的系統改進,包括業主、實時進程監控技術的啟用下一代困難屏蔽,不透明的 MoSi2 和石英用於的銘刻進程製造先進的雙和移相光掩膜。

屏蔽製造商用於應用的四系統全世界銘刻绝大多數的高端屏蔽在過去五年期間包括實際上每 32nm 節點和 EUVL3 發展屏蔽。 對於更多信息,訪問 www.appliedmaterials.com/products/photomask_etch_4.html。

Applied Materials, Inc. (那斯達克:AMAT) 是在提供創新設備的全球領導先鋒、服務和軟件啟用先進的半導體製造,平板顯示器和太陽光致電壓的產品。 我們的技術幫助做像智能手機、平面屏幕電視和太陽電池板的創新價格合理和可訪問對消費者和企業環球。 在應用的材料,我們把今天創新變成行業明天。 瞭解更多在 www.appliedmaterials.com。

Last Update: 26. January 2012 06:41

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