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卡爾蔡司和Synopsys合作開發芯片的光掩膜製造的註冊計量

Published on October 28, 2010 at 7:06 PM

卡爾蔡司SMS GmbH公司 ,為光掩膜計量和維修工具和Synopsys的領先供應商,公司(納斯達克股票代碼:SNPS),在半導體設計,驗證和製造軟件及知識產權的世界領先地位,今天宣布一項合作計劃,支持對ZEISS工具系列模具計量解決方案,為 32納米(nm)及以下技術節點。

Synopsys公司將提供支持蔡司證明通過 Synopsys公司™,下一代的註冊計量工具,“貓™,技術領先的掩模數據準備解決方案。使用貓數據準備發動機,面膜工程師使用被證明可以受益於一個註冊計量系統,以滿足嚴格的套印精度要求的提高效率和可用性。

被貓掩模數據準備工作將進一步加強,證明有效率。

強大的光學鄰近校正和雙重圖形技術,需要延長 193納米光刻技術的下一代技術節點,需求較大的光掩模圖形的貼裝精度。新的證明系統滿足這些需求的增加其193納米照明光學系統的開創性的概念。它可在不配售註冊商標測量最小的生產特點,在模具的測量能力,使面膜製造商衡量和分析面具的關鍵領域中的登記。

新的貓科動物,目前該模塊,在有限的客戶可用性和一般在2011年3月,使光罩計量工作的設置為快速,高效,全自動化流程。使用行業標準的開放格式OASIS.MASK和XML,先進的標記能力和證明二維(2D)相關法,貓提供了顯著的提高,傳統的圖像分析計劃。創新的方法比較面具被貓提供由被證明捕獲面具的圖像,使用基於邊只有一維測量的標準方法相比,在更高的測量精度,二維設計剪輯。

“博士說:”Synopsys公司在計量芯片訣竅“長期掩模數據準備和卡爾蔡司的經驗”,新的貓科動物,其激動人心的功能模塊將大大有助於減少任意生產特點的面具登記錯誤,德克 - 拜爾,產品經理卡爾蔡司SMS GmbH公司證明。

登記錯誤,現在可以被量化為每個面具沒有分辨率的限制,讓面膜製造商一個完全新的工具,減少雙重圖形的位置和面罩面具覆蓋錯誤。

“Synopsys的卡爾蔡司的合作體現了我們致力於提供全面的光刻技術,檢驗和計量解決方案,以光罩製造市場”,法比奧 Angelillis,Synopsys的矽工程集團工程副總裁說。 ,“他補充說:”通過延長貓的支持被證明,我們提供更高質量的計量解決方案為我們的客戶在32納米技術節點及以下。

Last Update: 4. October 2011 20:57

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