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EV 组开发非常高解决方法设备的新的整体透镜造型

Published on December 2, 2010 at 1:48 AM

EV 组 (EVG),薄酥饼 MEMS 的,纳米技术和半导体市场接合和石版印刷设备的主导的供应商,今天宣布它开发了可能启用非常高解决方法的新的微型透镜造型进程 (八 megapixels 和更高) 薄酥饼级的光学批量生产用于聪明的电话、 pico 放映机和无数其他应用。

新的整体透镜造型 (MLM)功能,由 EVG 的工艺过程开发小组开发内部,是可用的作为在公司的智商直线对准器紫外 nanoimprint 石版印刷 (UV-NIL) 系统的一个选项或可以被升级到现有的设备。 EVG 期望在 2011年的上半年发运其有 MLM 选项的第一台智商直线对准器。

因为照相机的范围在移动电话的可以是在移动手机设计的一个限制因素,有对可能仍然论及呼叫请求更加高分辨率和成本实效的更小的照相机模块的增长的需求。 这转移了 CMOS 图象传感器和微型光学栈制造到薄酥饼级别。 同时,薄酥饼级的照相机的演变往符合高性能标准的更高的象素计数的驱动对更加复杂的光学系统,并且,因而,更加严密的制造容差的需要。

在今天薄酥饼级的照相机生产,玻璃基体典型地使用作为承运人和间隔号薄酥饼为透镜,由一份光学聚合材料组成。 这些要素的不同的材料特性限制解决方法和图象质量,妨害照相机模块的可缩放性和质量。 EVG 的 MLM 进程通过消灭对玻璃基体的需要解决此限制。 反而,这个聚合物被铸造在二种印花税之间然后治疗与紫外风险由 EVG 的智商直线对准器系统。 通过省略玻璃基体,薄酥饼级的光学制造商面对在光学和透镜栈的少量约束设计启用薄透镜薄酥饼和显着更短的光学栈的生产。 另外,因为使用室温 UV-NIL 进程与热量印,智商直线对准器铸造微型透镜,高度精确度对准线达到在光学透镜栈最大化的设备性能的多种要素之间。

马库斯 Wimplinger、总公司技术开发和 EV IP 主任编组,注意, “假使薄酥饼级的照相机市场,制造商可能产生他们清楚的竞争力的需要解决方法的难以置信地动态本质。 前进技术和进程技术是在选择正确的设备供营商的两个重要对价与在支持他们的制造工作成绩成为伙伴。 我们新的 MLM 选项扩大我们薄酥饼级的微型透镜制造功能付得起我们的客户在他们的设计的更多灵活性和支持他们的生产模式。 作为提供整体透镜造型的一个生产准备好的进程的第一个设备供应商,后提供从 EV 组的这在薄酥饼级的照相机市场上进一步巩固我们的领导”。

来源: http://www.evgroup.com/

Last Update: 11. January 2012 17:13

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